編號：NMJS03806
篇名：用于化學復合鍍的Ni3.1B非晶態(tài)納米合金粉體的制備
作者：王鈺蓉； 王文昌； 石建華； 光崎尚利,； 陳智棟
關鍵詞：化學復合鍍,； Ni3.1B非晶態(tài)納米合金粉體,； 包覆
機構： 常州大學石油化工學院,； 株式會社クオルテック
摘要： 利用化學還原法,以硼氫化鉀為還原劑,制備了Ni3.1B非晶態(tài)納米合金粉末,用于化學鍍(Ni-P)-Ni3.1B合金鍍層,。通過對還原劑硼氫化鉀,、穩(wěn)定劑硫脲和表面活性劑聚乙烯吡咯烷酮對Ni3.1B納米合金粉末的粒徑的影響,確定化學還原法制備Ni3.1B的最佳條件為0.02 mol/L NiCl2.6H2O,0.06 g/L KBH4,2mg/L硫脲,0.25g/L聚乙烯吡咯烷酮,。通過對Ni3.1B粉體分散性和在化學鍍Ni-P-B合金鍍液中的穩(wěn)定性的研究,發(fā)現(xiàn)海藻酸鈉對Ni3.1B具有良好的包覆效果。
