編號：NMJS03773
篇名：化學鍍銅Si基底上碳納米管薄膜強流脈沖發(fā)射穩(wěn)定性研究
作者：麻華麗,； 張新月,； 曾凡光； 王淦平； 向飛
關(guān)鍵詞：連續(xù)強流脈沖發(fā)射,； 碳納米管； 化學鍍銅,； 穩(wěn)定性
機構(gòu)： 鄭州航空工業(yè)管理學院數(shù)理系,； 中國工程物理研究院應(yīng)用電子學研究所高功率微波技術(shù)重點實驗室
摘要： 為了研究碳納米管薄膜在強流連續(xù)多脈沖下的發(fā)射特性,采用酞菁鐵高溫熱解方法在化學鍍銅硅基底上生長了碳納米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作為強流脈沖發(fā)射陣列。在20GW脈沖功率源系統(tǒng)中采用二極結(jié)構(gòu)對Si/Cu-CNTs薄膜進行連續(xù)多脈沖高電流發(fā)射測試,結(jié)果表明:連續(xù)多脈沖情況下,峰值電場達到29.1V/μm,發(fā)射電流密度為0.892kA/cm2時,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的發(fā)射可重復性,連續(xù)發(fā)射的每個電流波形基本一致,發(fā)射穩(wěn)定性好,。
