編號：NMJS03766
篇名：模板法交流沉積金納米線的影響因素
作者：吳曌； 張?jiān)仆?杜凱,；
關(guān)鍵詞：多孔氧化鋁模板,； 阻擋層； 交流電沉積,； 金納米線,；
機(jī)構(gòu)： 中國工程物理研究院激光聚變研究中心,；
摘要： 使用交流電沉積在多孔氧化鋁模板中制備金納米線,對交流電沉積時阻擋層厚度,、交流電壓,、交流頻率等因素進(jìn)行了系統(tǒng)的研究和探討,。使用交流電沉積制備出了直徑30 nm,、長度2.1μm的形貌完好,、長度均一的金納米陣列,。結(jié)果表明模板的阻擋層厚度能夠顯著影響金屬的沉積電位,是保證沉積順利進(jìn)行的重要因素。通過記錄,、分析不同條件下交流沉積過程中時間-電流曲線來對交流沉積過程進(jìn)行深入研究并提出相應(yīng)機(jī)理,。發(fā)現(xiàn)同頻率下平臺電流值不變,納米線的長度與交流電壓大小成正比,而同電壓下沉積的平臺電流與交流電頻率成正比,這些都與阻擋層的半導(dǎo)體特性有關(guān)。
