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氧化錫納米線的光致發(fā)光性能分析

編號:NMJS03753

篇名:氧化錫納米線的光致發(fā)光性能分析

作者:李立珺,;

關(guān)鍵詞:氧化錫,; 納米線; 光致發(fā)光,;

機構(gòu): 西安郵電大學(xué)電子工程學(xué)院,;

摘要: 通過熱蒸發(fā)沉積法在常壓,、900°C高溫條件下,合成了氧化錫納米線結(jié)構(gòu)。利用掃描電子顯微鏡,、透射電子顯微鏡及選區(qū)電子衍射對樣品的表面形貌和微結(jié)構(gòu)進行了表征,X射線衍射,、傅里葉變換紅外光譜進一步證明所制納米結(jié)構(gòu)為金紅石型氧化錫單晶結(jié)構(gòu),。在77K和300K溫度條件下,研究了所制氧化錫納米線及其在氧氣氣氛中退火后的光致發(fā)光性能。

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