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直流濺射法制備納米金的工藝及形成機制

編號:NMJS03670

篇名:直流濺射法制備納米金的工藝及形成機制

作者:竇娜娜,; 王涵,; 張蓓,; 宋西平;

關鍵詞:濺射工藝,; 納米金,; 形成機制,;

機構: 北京科技大學新金屬國家重點實驗室; 北京科技大學數(shù)理學院物理系,;

摘要: 利用直流濺射儀制備了納米金薄膜,并通過隨后的退火處理得到了納米金顆粒,研究了不同襯底,、濺射時間、退火溫度及時間對納米金顆粒形成的影響規(guī)律,。結果表明,襯底對納米金的形成有顯著的影響,形核質點多的載玻片比單晶硅片更容易形成細小的納米金顆粒;濺射時間越短,退火溫度愈高,納米金薄膜愈容易球化;在濺射30 s,、400℃保溫60 min的條件下得到了直徑為8~12 nm的金顆粒。根據(jù)金的表面能,、表面張力以及金原子的擴散等因素討論了納米金顆粒的形成機制,。

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