編號：SBJS00342
篇名：銅基碳納米管薄膜的制備及其強流脈沖發(fā)射特性研究
作者：麻華麗,； 霍海波,； 曾凡光； 向飛,； 王淦平
關鍵詞：強流脈沖發(fā)射,； 碳納米管,； 銅基底,； 穩(wěn)定性
機構： 鄭州航空工業(yè)管理學院數(shù)理系,； 中國工程物理研究院應用電子學研究所,高功率微波技術重點實驗室
摘要： 為了研究碳納米管薄膜的強流脈沖發(fā)射特性,采用酞氰鐵高溫熱解方法在機械拋光銅基底上直接生長了碳納米管薄膜(Cu-CNTs),Cu-CNTs生長方向各異.在20GW脈沖功率源系統(tǒng)中采用二極結構對Cu-CNTs的強流脈沖發(fā)射特性進行研究,研究結果表明:在單脈沖發(fā)射條件下,隨脈沖電場峰值的增大,Cu-CNTs薄膜的發(fā)射電流峰值呈線性增加,當宏觀場強為15.5V/μm時,發(fā)射脈沖電流的峰值可達到5.56kA,對應的發(fā)射電流密度0.283kA/cm2,當宏觀場強達到32.0V/μm時,發(fā)射脈沖電流的峰值可達到18.19kA,對應的發(fā)射電流密度0.927kA/cm2,發(fā)射電流能力明顯優(yōu)于已有報道.在相同峰值,連續(xù)多脈沖情況下,碳納米管薄膜具有良好的發(fā)射可重復性,且發(fā)射性能穩(wěn)定. 更多還原
