編號(hào)：CPJS01621
篇名：Ni-金剛石復(fù)合鍍層的制備
作者：王美娟,； 王日初,； 彭超群,； 馮艷,； 張純； 鄧?yán)铦崳?/p>
關(guān)鍵詞：復(fù)合電沉積,； 溫度,； pH； 鎳離子濃度,； 陰極電流密度,； 金剛石粉體； 鍍層表面形貌,；
機(jī)構(gòu)： 中南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,；
摘要： 通過(guò)復(fù)合電鍍方法,在鍍鎳液中加入粒徑為40μm的金剛石粉體制備Ni-金剛石復(fù)合鍍層。采用陰極動(dòng)電位極化方法,、掃描電鏡和顯微硬度計(jì)探討鍍液溫度,、pH、鎳離子濃度,、電流密度和金剛石粉體質(zhì)量濃度對(duì)鍍層質(zhì)量的影響,優(yōu)化Ni-金剛石復(fù)合鍍的工藝參數(shù);采用X線衍射分析儀表征優(yōu)化后復(fù)合鍍層的結(jié)構(gòu),。研究結(jié)果表明:優(yōu)化的鍍液組成和工藝參數(shù)為:NiSO4.6H2O 132 g/L,NiCl215 g/L,H3BO330 g/L,鍍液溫度(50±1)℃,pH 3~4,陰極電流密度4 A/dm2,金剛石粉體質(zhì)量濃度30 g/L;優(yōu)化后的復(fù)合鍍層表面平整,晶粒細(xì)小均勻,且金剛石粉體的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為62.7%;與純Ni鍍層的晶粒相比,Ni-金剛石復(fù)合鍍層的晶粒明顯細(xì)化。
