編號(hào)：NMJS03385
篇名：硅烷偶聯(lián)劑KH-560改性納米二氧化硅
作者：劉會(huì)媛,； 李德玲,； 李星；
關(guān)鍵詞：納米二氧化硅,； 烷偶聯(lián)劑,； 接枝改性,；
機(jī)構(gòu)： 唐山師范學(xué)院化學(xué)系；
摘要： 用硅烷偶聯(lián)劑KH-560對(duì)納米SiO2樣品表面進(jìn)行接枝改性研究,�,？疾炝思{米SiO2的用量,、KH-560百分含量、改性溫度以及改性時(shí)間對(duì)改性效果的影響,。采用紅外光譜,、熱重分析手段對(duì)表面改性前后的納米SiO2進(jìn)行表征。納米SiO2最佳工藝改性條件:納米SiO2用量4%,KH-560百分含量2%,改性溫度90°C,改性時(shí)間6 h,。
