編號(hào)：NMJS03345
篇名：電阻熱蒸發(fā)鍍膜與電子束蒸發(fā)鍍膜對(duì)納米球刻蝕方法制備二維銀納米陣列結(jié)構(gòu)的影響
作者：羅銀燕,； 朱賢方,；
關(guān)鍵詞：銀納米陣列,； 電阻熱蒸發(fā),； 電子束蒸發(fā)； 納米球刻蝕,；
機(jī)構(gòu)： 廈門大學(xué)物理系,；
摘要： 在使用納米球刻蝕法制備二維銀納米點(diǎn)陣的過程中,使用不同的鍍膜方法在同樣的模板上得到了不同形貌的銀納米陣列結(jié)構(gòu).使用電阻熱蒸發(fā)鍍膜方法獲得了六角排列的銀納米三角形陣列結(jié)構(gòu),使用電子束蒸發(fā)鍍膜方法則獲得了六角排列的銀納米環(huán)陣列結(jié)構(gòu).研究表明,沉積納米粒子的粒徑,、表面納米曲率效應(yīng)和熱能是形成不同結(jié)構(gòu)形貌的納米陣列結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵因素.
