編號(hào)：NMJS03305
篇名：常壓下用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法在HP40鋼表面制備納米氧化鋁薄膜及表征
作者：黃志榮,； 李攀瑜；
關(guān)鍵詞：金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法,； 氧化鋁,； 沉積速率； 納米薄膜,；
機(jī)構(gòu)： 華東理工大學(xué)機(jī)械與動(dòng)力工程學(xué)院,；
摘要： 常壓下用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法（MOCVD）,以仲丁醇鋁（ATSB）為前驅(qū)體、氮?dú)鉃檩d氣在HP40鋼表面制備了納米氧化鋁薄膜;用光學(xué)顯微鏡,、掃描電子顯微鏡及能譜儀,、X射線衍射儀、原子力顯微鏡等研究了沉積溫度等參數(shù)對(duì)氧化鋁薄膜沉積速率的影響,并對(duì)其形貌進(jìn)行了觀察,。結(jié)果表明:隨著沉積溫度從503K升高到713K,薄膜沉積速率從0.1mg·cm-2·h-1增加到0.82mg·cm-2·h-1;當(dāng)沉積溫度在593～653K范圍內(nèi),可獲得晶粒尺寸為10～15nm的納米氧化鋁薄膜;反應(yīng)的表觀活化能隨氮?dú)馀cATSB蒸氣混合氣流速增加而降低,不同的混合氣流速有不同的反應(yīng)級(jí)數(shù),ATSB的反應(yīng)級(jí)為0.7±0.02,。
