編號(hào)：CSJS00072
篇名：一種適用于在線檢測(cè)的納米薄膜厚度精確測(cè)量方法
作者：姬弘楨,； 鄒娟娟,； 崔寶雙,；
關(guān)鍵詞：薄膜,； 厚度,； 測(cè)量,； 精確,；
機(jī)構(gòu)： 中國(guó)科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所,；
摘要： 提出了一種新的薄膜厚度測(cè)量方法,。該方法以鍍有一層厚度足以引起干涉的過(guò)渡層為襯底,通過(guò)測(cè)量鍍膜前后透(反)射譜的變化,即可實(shí)現(xiàn)薄膜厚度的精確測(cè)量,。由于過(guò)渡層的厚度已經(jīng)引起干涉,新鍍上去的待測(cè)薄膜即使很薄,也會(huì)引起干涉的變化。通過(guò)鍍制待測(cè)薄膜前后透(反)射譜干涉的變化,可以很容易地精確測(cè)量出待測(cè)薄膜的厚度,其測(cè)量極限高達(dá)1nm以上,。該方法既保持了傳統(tǒng)光譜法的所有優(yōu)勢(shì),又可以精確測(cè)量納米超薄膜的厚度,。它非常簡(jiǎn)單、快捷,特別適用于鍍膜行業(yè)的在線檢測(cè)和實(shí)時(shí)監(jiān)控,尤其是弱吸收材料超薄膜的厚度測(cè)量,。
