編號(hào)：NMJS03173
篇名：高分散性SiO_2/PMMA復(fù)合材料的制備與表征——納米SiO_2在MMA中的分散
作者：邵建中,； 袁艷； 張睿,； 吳明華,； 戚棟明；
關(guān)鍵詞：納米SiO2,； 硅烷偶聯(lián)劑,； 分散性； 甲基丙烯酸甲酯,；
機(jī)構(gòu)： 浙江理工大學(xué)生態(tài)染整技術(shù)教育部工程研究中心,； 浙江理工大學(xué)先進(jìn)紡織材料與制備技術(shù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室；
摘要： 用硅烷偶聯(lián)劑3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MPS)對(duì)分散于乙醇中的納米SiO2進(jìn)行偶聯(lián)改性,再通過(guò)介質(zhì)置換和原位本體聚合制得SiO2/甲基丙烯酸甲酯(MMA)單體分散液和SiO2/PMMA復(fù)合材料.紅外光譜分析(FTIR)和熱重分析(TG)結(jié)合洗提實(shí)驗(yàn)考察了SiO2表面MPS的偶聯(lián)率和偶聯(lián)效率,透射電鏡(TEM)和動(dòng)態(tài)激光粒度分析(DLS)考察了SiO2在乙醇,、單體和聚合物基體中的分散狀態(tài),在此基礎(chǔ)上推測(cè)MPS在SiO2顆粒表面的表觀偶聯(lián)密度和偶聯(lián)形式,分析偶聯(lián)程度對(duì)單體和聚合物基體中不同粒徑SiO2分散性的影響.發(fā)現(xiàn)MPS主要以低聚物形式偶聯(lián)于SiO2顆粒表面;SiO2分散性主要與其表面MPS的表觀偶聯(lián)密度相關(guān),當(dāng)偶聯(lián)密度在1.3～5.6μmol.(m2.SiO2)-1范圍內(nèi)時(shí),MPS偶聯(lián)完全,SiO2表面改性充分,相應(yīng)的SiO2顆�,？稍趩误w和聚合物基體內(nèi)達(dá)到初級(jí)粒子形式的高度均勻穩(wěn)定分散,且這種高分散性在實(shí)驗(yàn)范圍內(nèi)基本不受SiO2含量的影響.
