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等離子體刻蝕制造器件過程中,，有數(shù)個(gè)元件可用陶瓷材料制備。等離子體刻蝕的*片應(yīng)放置在一個(gè)陶瓷支架上,。為了避免支架上的晶體受到感染,，該支架必須能夠完全抵擋等離子體侵入,。另外,，刻蝕設(shè)備的一個(gè)關(guān)鍵雪件是窗口遮擋裝置，用干傳輸電磁波,，在產(chǎn)生等離子體的同時(shí)陰擋第四階段物質(zhì)的侵入,。

Nanoe基于上述兩項(xiàng)應(yīng)用推出一種高純度氧化鋁材料，其中加入氧化釔,，允許制作出足夠密度,、能抵擋等離子體的工件。