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上海矽諾國際貿(mào)易有限公司
韓國賽諾氧化鋯珠總代理
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技術(shù)文章
色漿涂料鋯珠研磨:研磨時(shí)間對(duì)UV噴墨色漿分散穩(wěn)定性和粒徑分布的影響

上海矽諾國際貿(mào)易有限公司  2021-10-13  點(diǎn)擊2423次

UV噴墨色漿的分散穩(wěn)定性對(duì)成品UV油墨的質(zhì)量有著密切聯(lián)系,,色漿分散穩(wěn)定能夠保證油墨體系分散細(xì)致均勻,進(jìn)而直接影響噴墨的各項(xiàng)性能,。因此色漿分散穩(wěn)定性是UV噴墨優(yōu)勢(shì)的基礎(chǔ)保障,,而分散劑、研磨時(shí)間,、儲(chǔ)存時(shí)間對(duì)UV噴墨色漿分散穩(wěn)定性具有重大影響,,由于賽諾鋯珠對(duì)色漿的研磨效果比較好,本次采用賽諾鋯珠對(duì)色漿的研磨時(shí)間和平均粒徑進(jìn)行測(cè)試,。

鋯珠研磨時(shí)間對(duì)UV噴墨色漿穩(wěn)定性的影響


分析可知,,分散劑685效果較優(yōu),其分散的粒徑大小及平均粒徑較小,,并且在粒徑分布上集中于平均粒徑的程度也較好,這里以分散劑685作為研究對(duì)象,,研究研磨時(shí)間的影響,。

結(jié)果見圖。由圖可知,,在實(shí)驗(yàn)條件下,,分散劑685在研磨時(shí)間60,75,,90min下的有效粒徑分別為324.0,,281.7,299.0nm,半峰寬分別為24.6,,20.7,,20.9nm,從有效粒徑可知,,氧化鋯珠研磨時(shí)間為75min時(shí),,色漿有效粒徑較小,分散效果較佳,,隨著研磨進(jìn)行,,預(yù)聚物逐漸填充色漿粒子分散的間隙,隨體系達(dá)到均勻分散狀態(tài),。從粒徑分布集中程度看,,75min時(shí)半峰寬比較小,表明分散粒子的粒徑大小集中于平均粒徑左右,,并且有效粒徑和半峰寬具有相似的走向,,可見兩者存在一定聯(lián)系。由圖可知,,隨著測(cè)量的進(jìn)行,,平均粒徑都有增加的趨勢(shì),但比較緩慢,,并且研磨時(shí)間為75min時(shí),,平均粒徑較小,短時(shí)間內(nèi)隨研磨時(shí)間增加,,粒徑減少,,一定程度后由于粒徑小帶來比表面能大,導(dǎo)致粒徑大小隨粒子聚集而增大,。從粒徑評(píng)價(jià)考慮,,研磨時(shí)間為75min時(shí)的粒徑分散效果好。所以,,該分散劑的最佳研磨時(shí)間的75min,,即在最佳時(shí)間下研磨得到的分散色漿粒徑最小。綜上在分散劑為685且研磨時(shí)間為75min的條件下研磨效果最佳,,可得到最佳分散效果,。


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