認 證：工商信息已核實
訪問量：1193988
上海矽諾國際貿(mào)易有限公司 2020-04-26 點擊5815次
靶材就是髙速荷能粒子轟擊的目標材料,。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)
鍍膜.鋁膜等,，更換不同的靶材(如鋁,、銅、不銹鋼,、鈦,、鎳靶等),即可得到不同的膜系如超硬、耐磨,、防腐的合金膜等),。
這里把靶材分為兩大類：金屬靶材、陶瓷靶材,。
金屬靶材:
鎳靶,、N、鈦靶,、Ti,、鋅靶、Zn,、鉻靶,、Cr、鎂靶,、kg,、鈮靶,、№b、錫靶,、Sn,、鋁靶、A1,、銦靶,、I、鐵靶,、Fe、鋯鋁靶,、ZrAl,、鈦鋁靶、TiΔl,、鋯靶,、Zr、鋁硅靶,、AlSi,、硅靶Sⅰ、銅靶Cu,、鉭靶T,、a、鍺靶,、e,、銀靶、Ag,、鉆靶,、Co、金靶,、Au,、釓靶、Gd,、鑭靶,、La、億靶,、Y,、鈰靶、Ce,、鎢靶,、w,、不銹鋼靶、鎳鉻靶,、NiCr,、鉿靶、H,、鉬靶,、M、鐵鎳靶,、FeNi,、鎢靶、W等,。
陶瓷靶材
陶瓷靶材分為化合物陶瓷靶材和氧化物靶材,，產(chǎn)品包含氧化物、氟化物,、氮化物,、碳化物、硼化物,、硫化物,、硅化物、硒化物,、碲化物,、磷化物以及各類混合摻雜物，純度99.5%-99.999%,，適合磁控濺射鍍,、熱蒸鍍、電子束蒸鍍,，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體行業(yè),、太陽能光伏光熱行業(yè)、建筑,、裝飾,、汽車、平面顯示,、LCD,、LED、集成電路,，元器件,、磁記錄、裝飾,、工具鍍膜,、航空航天,、軍工、科研等領(lǐng)域,。
制作工藝
磁控濺射靶材
1）磁控濺射原理：
在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場,，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場,，同高壓電場組成正交電磁場,。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子,，靶上加有一定的負高壓,，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體,，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜,。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射,，其中直流濺射設(shè)備原理簡單,，在濺射金屬時,，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛,，除可濺射導(dǎo)電材料外,，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時還可進行反應(yīng)濺射制備氧化物,、氮化物和碳化物等化合物材料,。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今,，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射,。
2）磁控濺射靶材種類：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材,，陶瓷濺射鍍膜靶材,，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材,，氟化物陶瓷濺射靶材,，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材,，硒化物陶瓷濺射靶材,，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材,，碲化物陶瓷濺射靶材,，其他陶瓷靶材,，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP）,，砷化鉛靶材（PbAs）,，砷化銦靶材（InAs）