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上海矽諾國際貿(mào)易有限公司 2020-04-26 點擊5452次
靶材就是髙速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)
鍍膜.鋁膜等，更換不同的靶材(如鋁,、銅,、不銹鋼、鈦,、鎳靶等),即可得到不同的膜系如超硬,、耐磨、防腐的合金膜等),。
這里把靶材分為兩大類：金屬靶材,、陶瓷靶材。
金屬靶材:
鎳靶,、N,、鈦靶、Ti,、鋅靶,、Zn、鉻靶,、Cr,、鎂靶、kg,、鈮靶,、№b、錫靶,、Sn,、鋁靶、A1、銦靶,、I,、鐵靶、Fe,、鋯鋁靶,、ZrAl、鈦鋁靶,、TiΔl,、鋯靶、Zr,、鋁硅靶,、AlSi、硅靶Sⅰ,、銅靶Cu,、鉭靶T、a,、鍺靶,、e、銀靶,、Ag,、鉆靶、Co,、金靶,、Au、釓靶,、Gd,、鑭靶、La,、億靶,、Y、鈰靶,、Ce,、鎢靶、w,、不銹鋼靶,、鎳鉻靶、NiCr,、鉿靶,、H,、鉬靶、M,、鐵鎳靶,、FeNi、鎢靶,、W等,。
陶瓷靶材
陶瓷靶材分為化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，產(chǎn)品包含氧化物,、氟化物,、氮化物、碳化物,、硼化物,、硫化物,、硅化物,、硒化物、碲化物,、磷化物以及各類混合摻雜物,，純度99.5%-99.999%，適合磁控濺射鍍,、熱蒸鍍,、電子束蒸鍍，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體行業(yè),、太陽能光伏光熱行業(yè),、建筑、裝飾,、汽車,、平面顯示、LCD,、LED,、集成電路，元器件,、磁記錄,、裝飾、工具鍍膜,、航空航天,、軍工、科研等領(lǐng)域,。
制作工藝
磁控濺射靶材
1）磁控濺射原理：
在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場,，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣）,，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場,。在電場的作用下,，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓,，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,，以很高的速度轟擊靶面,，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射,，其中直流濺射設(shè)備原理簡單,，在濺射金屬時，其速率也快,。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛,，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料,，同時還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物,、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,，如今,，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。
2）磁控濺射靶材種類：
金屬濺射鍍膜靶材,，合金濺射鍍膜靶材,，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材,，碳化物陶瓷濺射靶材,，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材,，氧化物陶瓷靶材,，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材,，硫化物陶瓷濺射靶材,，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材,，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO）,，磷化銦靶材（InP），砷化鉛靶材（PbAs）,，砷化銦靶材（InAs）