天津中環(huán)電爐股份有限公司
已認(rèn)證
天津中環(huán)電爐股份有限公司
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產(chǎn)品用途:
此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜,、陶瓷基片導(dǎo)電率測試,、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控
生長,、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,,快速降溫等工藝實驗。
產(chǎn)品組成:
CVD系統(tǒng)配置:
1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū)),。
2.滑動系統(tǒng)分為手動,、電動滑動,并配有風(fēng)冷系統(tǒng),。
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)
產(chǎn)品特點(diǎn):
控制電路選用模糊PID程控技術(shù),,該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,,溫度不過沖,,性能可靠,操作簡單,。
中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,,高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng),耐沖擊分子泵,,防止意外漏氣造成分子泵損壞,,延長系統(tǒng)使用壽命。
(電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動,,等程序完成,,爐體按設(shè)定的速度滑動,因有滑動限位功能爐體不會發(fā)生碰撞,,待樣品露出爐體后,,通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。
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企業(yè)名稱
天津中環(huán)電爐股份有限公司企業(yè)類型
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91120113700587236G法人代表
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