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產(chǎn)品用途：

此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試,、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火,，快速降溫等工藝實驗,。

產(chǎn)品組成：

CVD系統(tǒng)配置：

1.1200度開啟式真空管式爐（可選配多溫區(qū)）。

2.滑動系統(tǒng)分為手動,、電動滑動,，并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）    

產(chǎn)品特點：

控制電路選用模糊PID程控技術(shù),，該技術(shù)控溫精度高,，熱慣性小，溫度不過沖,，性能可靠,，操作簡單。

中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,，高真空系統(tǒng)采用高壓強,，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞,，延長系統(tǒng)使用壽命,。

(電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成,，爐體按設(shè)定的速度滑動,，因有滑動限位功能爐體不會發(fā)生碰撞，待樣品露出爐體后,，通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫,。