天津中環(huán)電爐股份有限公司
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產(chǎn)品用途
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,,在局部形成等離子體,,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),,在基片上沉積出所期望的薄膜,。
產(chǎn)品組成
PECVD系統(tǒng)配置,;
1.1200度開啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)(單獨(dú)購買)
產(chǎn)品特點(diǎn)
電源范圍廣,;溫度范圍寬;濺射區(qū)域長,;整管可調(diào),;精致小巧,性價(jià)比高,,可實(shí)現(xiàn)快速升降溫,,是實(shí)驗(yàn)室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,,陶瓷薄膜,,復(fù)合薄膜等的理想選擇,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用,。
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企業(yè)名稱
天津中環(huán)電爐股份有限公司企業(yè)類型
信用代碼
91120113700587236G法人代表
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