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導語

智能PECVD設備是目前最新型的一款設備，將所有的控制部分集為一體，此款設備是我司在2013年獲得專利的設備,?？膳鋫銹E射頻電源,，將CVD系統(tǒng)升級為PECVD,。當參與反應的氣氛進入爐管在射頻電源的作用下產(chǎn)生離子體，可使反應更加充分,。同時等離子體起增強的作用,，從而很大程度上優(yōu)化實驗的工藝條件。

我公司研制的PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū),，輝光均勻等效,，這種技術很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強度是傳統(tǒng)PECVD的百倍,，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象,。

1,、與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較，生長溫度更低,。

2,、設備特有的專利技術使得整管輝光均勻等效，均勻生長,。

設備特點：

1.薄膜沉積速率高：射頻輝光技術，大大的提高了薄膜的沉積速率,，沉積速率可達10A/S,；

2. 大面積均勻性高：采用了先進的多點射頻饋入技術，特殊氣路分布和加熱技術等,，使得薄膜均勻性指標達到8%,；

3. 一致性高：用半導體行業(yè)的先進設計理念，使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%,；

4. 工藝穩(wěn)定性高：高度穩(wěn)定的設備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定,。

安徽貝意克設備技術有限公司

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