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工業(yè)硅制粉加工工藝與設(shè)備的比較

工業(yè)硅制粉加工工藝與設(shè)備的比較
桂林鴻程  2024-05-20  |  閱讀:1330

      硅粉加工是為有機(jī)硅甲基單體合成裝置配套提供合格硅粉。硅粉加工裝置主要由硅塊庫(kù),、烘房,、破碎及研磨系統(tǒng),、氣力輸送、氮?dú)饣厥盏冉M成,。研磨系統(tǒng)是硅粉加工裝置的核心,主要功能是把硅塊研磨至甲基單體合成所需要的粒度及粒級(jí)組成的硅粉,。桂林鴻程作為工業(yè)硅制粉加工設(shè)備廠家,今天為您介紹一下工業(yè)硅制粉加工工藝與設(shè)備的比較,。

       研磨工藝和研磨設(shè)備決定硅粉的粒度及粒級(jí)組成,。目前國(guó)內(nèi)可供選擇的研磨設(shè)備有立式磨、雷蒙磨,、鋼球磨等,。工業(yè)硅制粉加工工藝與設(shè)備的選擇主要從以下幾個(gè)方面考慮:a.產(chǎn)品粒度:硅粉的粒度及粒級(jí)組成主要由各有機(jī)硅生產(chǎn)廠商所采用的流化床決定,粒徑一般在44~144um范圍內(nèi);b.研磨部件損耗量及使用壽命;c.研磨硅粉能耗及氮?dú)庀牧?d.自動(dòng)化程度;e.設(shè)備價(jià)格。

       一,、工業(yè)硅制粉加工之立式磨工藝:硅塊經(jīng)烘干,、破碎后給入立式磨,研磨后的硅粉被循環(huán)氣流帶出,經(jīng)收集器收集,,收下的粉料經(jīng)振動(dòng)篩篩分,篩上粗粒返回磨機(jī),篩下細(xì)粒進(jìn)入成品倉(cāng),。收集器排出的含塵氣體大部分循環(huán),少部分含塵氣體(含塵質(zhì)量濃度< 50mg/m3)直接高空排放。

       二,、工業(yè)硅制粉加工之雷蒙磨工藝:硅塊經(jīng)烘千,、破碎后給入雷蒙磨,研磨后的硅粉被循環(huán)氣流帶出,經(jīng)旋風(fēng)收塵器收塵,收下的粉料經(jīng)振動(dòng)篩篩分,篩.上物料返回雷蒙磨,篩下物料進(jìn)入成品倉(cāng)。旋風(fēng)收塵器排出的含塵氣體大部分循環(huán),少部分含塵氣體不達(dá)標(biāo),需經(jīng)兩級(jí)除塵,一級(jí)洗滌后高空排放,。

       三,、工業(yè)硅制粉加工之剛球磨工藝:硅塊經(jīng)烘干、破碎后給入鋼球磨,研磨后的硅粉被循環(huán)氣流帶出,經(jīng)分離器分離,,粗粒返回鋼球磨,細(xì)粒經(jīng)旋風(fēng)收塵器收塵進(jìn)入成品倉(cāng),。旋風(fēng)收塵器出來的含塵氣體大部分循環(huán),少部分含塵氣體經(jīng)一級(jí)布袋除塵,一級(jí)洗滌后高空排放,。

       綜上所述:立式磨,、雷蒙磨、鋼球磨都是工業(yè)硅制粉加工的設(shè)備,,雷蒙磨和鋼球磨較早應(yīng)用于研磨硅粉,但因工藝流程復(fù)雜,效率低,硅粉的產(chǎn)品粒度較細(xì),工藝參數(shù)調(diào)整困難,噪音大,需加隔音罩;研磨介質(zhì)磨輥,、鋼球、襯板耗量大;硅粉含鐵量高;研磨對(duì)系統(tǒng)含氧量要求高,必須在氮?dú)獗Wo(hù)下進(jìn)行,氮?dú)庀牧看?因此目前新建有機(jī)硅廠已很少使用雷蒙磨和鋼球磨研磨硅粉,。立式磨在水泥,、非金屬、化工等行業(yè)應(yīng)用較廣,,與雷蒙磨系統(tǒng)相比,立式磨有如下優(yōu)點(diǎn):a.立式磨系統(tǒng)設(shè)備少,流程簡(jiǎn)單,系統(tǒng)密封性好;b.立式磨系統(tǒng)采用一級(jí)收塵,效率高,操作方便,而雷蒙磨為三級(jí)收塵,工藝系統(tǒng)復(fù)雜,效率低;c.雷蒙磨為懸輥磨,而立式磨為壓輥磨,安全性好;d.立式磨系統(tǒng)噪音低,實(shí)測(cè)為85分貝,不用加隔音罩;e.立式磨系統(tǒng)單位產(chǎn)品能耗比雷蒙磨系統(tǒng)低,。桂林鴻程作為工業(yè)硅制粉加工設(shè)備廠家,我們有雷蒙磨,、立式磨,、環(huán)輥磨等多種工業(yè)硅制粉設(shè)備可供客戶選擇,。其中,立式磨系統(tǒng)流程簡(jiǎn)單,、操作方便,、安全、收塵效果好,硅粉的粒度及粒級(jí)組成較合適,系統(tǒng)自動(dòng)化程度高,設(shè)備噪音及單位產(chǎn)品能耗較低,氮?dú)庀牧窟h(yuǎn)低于雷蒙磨系統(tǒng),,將成為未來工業(yè)硅制粉加工的先進(jìn)設(shè)備,。


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