中國(guó)粉體網(wǎng)訊  6月8日，康達(dá)新材披露接待調(diào)研公告,，公司于6月6日接待國(guó)泰海通證券等19家機(jī)構(gòu)調(diào)研,。

對(duì)于公司研發(fā)的氧化鋁靶材，康達(dá)新材表示：“氧化鋁靶材可應(yīng)用于集成電路(IC)制造領(lǐng)域,，用于沉積絕緣層和介電層，隔離電路防止干擾,，減少電流泄漏,，提升產(chǎn)品的可靠性和耐久性。目前控股子公司惟新科技的氧化鋁靶材已完成了小批次驗(yàn)證,，根據(jù)客戶訂單需求供貨,。”

靶材——半導(dǎo)體制程中的關(guān)鍵材料

濺射靶材應(yīng)用于濺射薄膜沉積工藝,，濺射沉積是一種物理氣相沉積（PVD）工藝,，即在一定的真空環(huán)境下，利用荷能粒子轟擊材料表面,，使材料表面濺射出粒子并沉積在基底表面形成薄膜,。濺射薄膜沉積工藝可重復(fù)性好、膜厚可控,，所制備的薄膜具有純度高,、致密性好等優(yōu)點(diǎn)，可用于集成電路產(chǎn)業(yè)的高性能薄膜制備,，對(duì)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要推動(dòng)作用,。

ITO靶材

在濺射沉積工藝中，被轟擊的目標(biāo)材料稱為濺射靶材,。

濺射靶材可應(yīng)用于半導(dǎo)體,、平板顯示、光伏,、記錄存儲(chǔ)等多個(gè)領(lǐng)域,。就其分類：按照形狀不同，濺射靶材可分為圓形靶,、矩形靶和管狀靶,。按照材質(zhì)不同，濺射靶材材可以分為純金屬靶材（鋁、鈦,、銅,、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金,、鎳鈷合金等）,、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物,、碳化物,、硫化物等）。

陶瓷靶材按應(yīng)用分類

氧化鋁是一種常用的陶瓷靶材材料,。一般來(lái)說(shuō),，為了提高濺射效率及確保沉積薄膜的質(zhì)量，對(duì)陶瓷靶材有嚴(yán)格要求,，首先陶瓷靶材的純度對(duì)濺射薄膜的性能影響挺大,，陶瓷靶材的純度越高，濺射薄膜的均一性和批量產(chǎn)品質(zhì)量的一致性挺好,，因此氧化鋁用作靶材時(shí)需用到高純度氧化鋁,。

國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫

受到發(fā)展歷史和技術(shù)限制的影響，總體上濺射靶材行業(yè)在我國(guó)起步較晚,，目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè),。與國(guó)際知名企業(yè)生產(chǎn)的濺射靶材相比，我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)影響力相對(duì)有限,，尤其在半導(dǎo)體芯片,、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域,，全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)依然被美國(guó),、日本生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度,、更大尺寸的方向發(fā)展,，我國(guó)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新，具備較強(qiáng)的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)能力,，研制出適用不同應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材產(chǎn)品,，才能在全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)中占得一席之地。

近年來(lái),，我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展,，集成電路、顯示器,、太陽(yáng)能光伏行業(yè)均有大量企業(yè)出現(xiàn),，我國(guó)已逐漸成為世界上靶材的最大需求地區(qū)之一,。由于靶材市場(chǎng)具有極高的技術(shù)壁壘和客戶認(rèn)證壁壘，同時(shí)國(guó)際貿(mào)易格局存在較大的不確定性,，國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫,，使國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)有機(jī)會(huì)受益于國(guó)產(chǎn)替代所帶來(lái)的契機(jī)。

關(guān)于康達(dá)新材

康達(dá)新材擁有三十多年膠粘劑新材料生產(chǎn),、研發(fā)和銷售經(jīng)驗(yàn),，能深刻把握膠粘劑行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)，技術(shù)與產(chǎn)品不斷推陳出新,，競(jìng)爭(zhēng)力穩(wěn)步提升,，是國(guó)內(nèi)主要膠粘劑新材料生產(chǎn)企業(yè)之一。2018年公司開(kāi)啟外延并購(gòu)步伐,，進(jìn)入電子科技領(lǐng)域,，逐步完善電子科技板塊產(chǎn)業(yè)鏈的布局；通過(guò)控股大連齊化向膠粘劑上游延伸,，把控核心原材料,，同時(shí)探索電子級(jí)環(huán)氧樹(shù)脂方向；通過(guò)收購(gòu)晶材科技與惟新科技,，聚焦以電子信息材料為核心的第二增長(zhǎng)曲線中的ITO靶材,、氧化鋁靶材,、CMP（氧化鈰）拋光液,、低溫共燒陶瓷（LTCC）等無(wú)機(jī)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域，積極向先進(jìn)新材料領(lǐng)域轉(zhuǎn)型,。

參考來(lái)源：康達(dá)新材相關(guān)公告

（中國(guó)粉體網(wǎng)/山川）

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