隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,,半導(dǎo)體材料的革新速度也進一步加快,。當(dāng)前,碳化硅作為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,,在新能源汽車,、光伏、儲能等新興領(lǐng)域正快速滲透,,已成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的前沿和制高點,。同時,我國“十四五”規(guī)劃已將碳化硅半導(dǎo)體納入重點支持領(lǐng)域,,碳化硅半導(dǎo)體將在我國5G基站建設(shè),、特高壓、城際高速鐵路和城市軌道交通,、新能源汽車充電樁,、大數(shù)據(jù)中心等新基建領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。
近年來,,我國在SiC材料領(lǐng)域取得了顯著進展,,但與國際先進水平相比,在晶體生長技術(shù),、晶圓加工技術(shù)等方面仍存在一定差距,。SiC晶體生長過程中面臨著晶體缺陷控制、生長速率提升,、晶體質(zhì)量穩(wěn)定性等難題,;晶圓加工方面,,則存在加工精度不足、良品率低,、加工成本較高等挑戰(zhàn),。在當(dāng)前倡導(dǎo)節(jié)能減排的大趨勢下,快速穩(wěn)定地突破碳化硅單晶尺寸和質(zhì)量等關(guān)鍵問題,,才能夠更好地占據(jù)未來碳化硅市場,。
在此背景下,中國粉體網(wǎng)將于2025年8月21日在江蘇·蘇州舉辦第三代半導(dǎo)體SiC晶體生長及晶圓加工技術(shù)研討會,,大會將匯聚國內(nèi)行業(yè)專家,、學(xué)者、技術(shù)人員,、企業(yè)界代表圍繞晶體生長工藝,、關(guān)鍵原材料、生長設(shè)備及應(yīng)用,、碳化硅晶片切,、磨、拋技術(shù)等方面展開演講交流,。北京匯德信科技有限公司作為參展單位邀請您共同出席,。
自1999年成立以來,北京匯德信科技有限公司始終秉承“誠信,、專業(yè),、創(chuàng)新”的宗旨,將國際上先進的納米科學(xué)技術(shù)設(shè)備引進到國內(nèi),。我們與德國亞琛工業(yè)大學(xué),、德國明斯特大學(xué)、德國斯圖加特大學(xué),、德國卡爾斯魯爾納米中心及德國Max-Planck研究所等知名科研院所有著緊密的合作,,并系統(tǒng)地代理了Allresist(光刻膠)、Novocontrol(寬頻介電阻抗譜儀),、 Keller(紅外測溫儀)等多家國際知名高新技術(shù)企業(yè)產(chǎn)品,。產(chǎn)品覆蓋了微納米制造、檢測,、分析等相關(guān)領(lǐng)域,。產(chǎn)品已經(jīng)被國內(nèi)眾多科研院所、大學(xué)及工業(yè)用戶使用,,并得到用戶一致好評和認可。
作為幾十家國際知名品牌的國內(nèi)獨家代理,,匯德信已建立起以客戶為中心,,為客戶解決科研需求的銷售團隊和專業(yè)的技術(shù)支持隊伍,。公司不定期地組織技術(shù)人員出國培訓(xùn),提升技術(shù)水平,,更好地為客戶提供技術(shù)解決方案,。
基于長期的合作信任關(guān)系及業(yè)務(wù)增長態(tài)勢,2017年我們與德國Raith公司成立了合資企業(yè),,將電子束光刻機業(yè)務(wù)劃分出來,,與廠商更緊密合作,共同努力為國內(nèi)用戶提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和服務(wù),。
2019年匯德信在常州成立分公司,,獲得資質(zhì)專門銷售光刻膠產(chǎn)品。
匯德信將一如既往地為國內(nèi)用戶尋找國際領(lǐng)先的創(chuàng)新型產(chǎn)品,,服務(wù)用戶,,共創(chuàng)未來!
產(chǎn)品介紹
1,、高分辨紫外/深紫外PHABLE光刻機(全息光刻系統(tǒng))
EULITHA AG公司開發(fā)的PHABLE大面積,、低成本的納米圖形化方案,采用突破性的Displacement Talbot Lithography專利技術(shù),。相比傳統(tǒng)的電子束光刻,、投影式光刻機、納米壓印等納米結(jié)構(gòu)方案中,,遇到的生產(chǎn)效率,、良率、生產(chǎn)成本等問題,,PHABLE光刻技術(shù)提供了高精度,、高均勻性、低缺陷率,、高產(chǎn)率的解決方案,。
應(yīng)用領(lǐng)域:
照明、激光器,、光通信,、高端顯示、太陽能,、傳感器,、仿生等。
特點及優(yōu)勢:
穩(wěn)定的納米級分辨能力,;
大面積全域曝光,,無需拼接;
無限制DOF,,厚膠,、表面翹曲無影響,;
雙工作模式:
全息光刻模式:周期性納米結(jié)構(gòu);
掩膜對準光刻模式:任意微米級結(jié)構(gòu),。
簡化的曝光流程,,可實現(xiàn)一鍵式曝光
靈活的客戶定制化方案
指標:
光源 | UV (near-i line) | DUV (248nm) | DUV (193nm) |
曝光面積 | 4、6,、8英寸,,全域曝光 | ||
分辨率 | <100nm | <80nm | <50nm |
圖形周期范圍 | 250-1100 nm | 165-900 nm | 125-800 nm |
圖形占空比范圍 | 30-50% | ||
套刻對準及精度 | 手動對準,套刻精度 ±2 μm | ||
操作方式 | 手動裝片,,自動曝光 | ||
參數(shù)設(shè)置 | PLC觸屏 | Windows系統(tǒng)PC |
2,、Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀
Novocontrol GmbH是德國一家專業(yè)的電介質(zhì)頻率譜、阻抗譜,、溫度譜等電介質(zhì)材料物理量測量儀器的生產(chǎn)廠家,,創(chuàng)立于1980年,其與馬克思•普朗克科學(xué)促進學(xué)會多聚體研究所的科學(xué)家們聯(lián)合開發(fā)研制出先進的全系列寬頻介電阻抗譜儀(介電譜),。
Novocontrol的介電譜儀可以通過與Keysight高頻分析儀的結(jié)合達到很寬的頻率范圍(3μHz~3GHz),;能靈敏地測量極低電導(dǎo)率和極低損耗的材料(分辨率可達10-5);具有極寬的阻抗分析范圍(10mΩ~100TΩ),;不但可以測量各種固體,、薄膜材料,還可以測量液體,,粉末等樣品材料,;其自主研發(fā)的全自動在線控制軟件可以實時進行多達三十多種不同參數(shù)的測量與分析。
三種不同溫度范圍的溫度控制系統(tǒng),,可以滿足不同電介質(zhì)材料測量時對溫度范圍和控溫精度的不同要求,,另外我們還提供溫度高達1200℃~1600℃的高溫爐系統(tǒng),用于研究電介質(zhì)材料在高溫條件下的介電性能,。
Novocontrol不但可提供完整的電介質(zhì)參數(shù)測量系統(tǒng),,也可根據(jù)客戶的需求提供相應(yīng)的部件,例如阻抗分析儀,、樣品架,、溫度控制系統(tǒng)和分析軟件等。也可以為用戶測量一定數(shù)量的實驗樣品,。
Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀不僅是實驗室開發(fā)和研究新材料的重要測量手段,,也是生產(chǎn)質(zhì)量控制和優(yōu)化生產(chǎn)工藝的強有力的工具。Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀廣泛應(yīng)用于化學(xué),、物理化學(xué),、電化學(xué)、電子,、電工工程,、半導(dǎo)體,、材料科學(xué)、生物學(xué)和制藥等領(lǐng)域,,特別是聚合物、樹脂,、陶瓷,、橡膠、玻璃,、液晶,、石油、懸浮體以及半導(dǎo)體晶片及器件等的研究,。目前其用戶包括多個國家的科研院所和400多家國際企業(yè),。
主要產(chǎn)品和參數(shù)
一、介電與阻抗分析
頻率范圍 | 3μHz~40MHz(up to 3GHz with Keysight E4991B) |
阻抗范圍 | 10m Ohm~100TOhm |
電容范圍 | 1fF~1F |
相位差精度 | 2*10-3 |
損耗精度:(tan(δ)) | 3*10-5 |
測量電壓 | 10-6~3V |
直流偏壓 | ±40V |
測量方式 | 自動修正,、自動基準,、手動基準 |
接口總線 | GPIB/IEEE488 |
二,、溫度控制系統(tǒng)
溫度范圍為-160到400℃,可根據(jù)不同的需求選取不同的溫度范圍和控制精度,。
QUATRO Cryosystem | -160~+400℃ |
NOVOCOOL | -100~+250℃ |
NOVOTHERM | 室溫~+400℃ |
NOVOTHERM-HT | 室溫~1600℃ |
PHECOS | -50℃ ~ 200℃ |
會務(wù)組
聯(lián)系人:段經(jīng)理
電話:13810445572
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