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【原創(chuàng)】關(guān)稅實(shí)際已達(dá)145%!中國CMP行業(yè)何去何從?


來源:中國粉體網(wǎng)   山川

[導(dǎo)讀]  挑戰(zhàn)和機(jī)遇共存。

中國粉體網(wǎng)訊  據(jù)美國白宮最新發(fā)布的一項(xiàng)行政命令顯示,,特朗普對(duì)中國征收的關(guān)稅總額為145%,,而不是之前所說的125%。


隨后,,中方?jīng)Q定對(duì)美所有進(jìn)口商品加征125%關(guān)稅,,并表示:在目前關(guān)稅水平下,,美國輸華商品已無市場(chǎng)接受可能性。如果美方繼續(xù)關(guān)稅數(shù)字游戲,,中方將不予理會(huì),。


在這場(chǎng)沒有硝煙的戰(zhàn)爭(zhēng)中,CMP拋光作為半導(dǎo)體制程中的重要一環(huán),,正面臨怎樣的變局,?


01.行業(yè)現(xiàn)狀


當(dāng)前,化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(CMP)是唯一可以實(shí)現(xiàn)全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù),,隨著集成電路元件的最小特征尺寸縮小到7nm甚至5nm,,CMP技術(shù)在過去的幾十年中得到了突飛猛進(jìn)的發(fā)展,其拋光工藝已達(dá)到納米級(jí),,被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體加工制程,,成為納米級(jí)集成電路制造的標(biāo)準(zhǔn)過程,促進(jìn)了集成電路技術(shù)和摩爾定律的穩(wěn)步發(fā)展,。


其中,,拋光設(shè)備拋光材料是CMP工藝過程中最關(guān)鍵要素。其性能和相互之間的匹配決定了CMP中的材料去除率和拋光后的表面質(zhì)量,。


設(shè)備方面,,目前全球CMP設(shè)備市場(chǎng)主要由美國應(yīng)用材料和日本荏原占據(jù),處于高度壟斷狀態(tài),。根據(jù)Gartner數(shù)據(jù),,上述兩家制造商的CMP設(shè)備全球市場(chǎng)占有率超過90%,尤其在14nm以下先進(jìn)制程工藝產(chǎn)線上使用的CMP設(shè)備主要由美國應(yīng)用材料和日本荏原兩家國際巨頭提供,。


中國大陸2022年CMP設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模達(dá)6.66億美元,,預(yù)計(jì)2025年中國CMP設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將突破93億元,年增速近20%,。但目前絕大部分高端CMP設(shè)備仍然依賴于進(jìn)口,,主要由美國應(yīng)用材料和日本荏原兩家提供。


全球CMP拋光液市場(chǎng)企業(yè)占比



全球CMP拋光墊市場(chǎng)企業(yè)占比


拋光耗材方面,,目前國產(chǎn)化率仍較低,拋光液市場(chǎng)主要被CMC Materials,、Resonac,、Versum和Fujimi等美日企業(yè)壟斷,拋光墊全球市場(chǎng)市場(chǎng)份額則主要被杜邦占據(jù),。


目前,,CMP領(lǐng)域成為國產(chǎn)替代任務(wù)最為緊迫的領(lǐng)域之一。


02.關(guān)稅大戰(zhàn)后對(duì)我國CMP行業(yè)的影響


由于美國不斷加征關(guān)稅以及中國霸氣反擊,,中國從美國采購CMP設(shè)備及拋光材料的成本必然陡增,。


據(jù)專業(yè)人士透露,,若美系設(shè)備采購成本增加20%,其28納米制程的毛利率可能下降5個(gè)百分點(diǎn),。國內(nèi)晶圓廠勢(shì)必將面臨兩難選擇:高價(jià)采購美系產(chǎn)品擠壓利潤,,或轉(zhuǎn)向日韓、歐洲供應(yīng)商(如日本荏原),,但后者同樣面臨技術(shù)適配性和產(chǎn)能限制,。


在此背景下,中國CMP產(chǎn)業(yè)或迎來國產(chǎn)替代窗口期,。


設(shè)備方面,,華海清科2024年?duì)I收達(dá)34.14億元,,同比增長36.12%,,公司歸因于“成功把握市場(chǎng)機(jī)遇,,CMP產(chǎn)品市場(chǎng)占有率和銷售規(guī)模持續(xù)提高,,同時(shí)新產(chǎn)品研發(fā)和銷售進(jìn)展順利”,。晶亦精微亦形成了完整的CMP技術(shù)體系,具備8英寸,、12英寸,、6/8英寸兼容CMP工藝研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化能力,。


晶亦精微CMP設(shè)備


材料方面,,安集科技作為國內(nèi)CMP拋光液領(lǐng)軍者,,一直在不斷加大研發(fā)投入,,拓寬產(chǎn)品布局,橫向拓寬產(chǎn)品線打造半導(dǎo)體材料平臺(tái),,現(xiàn)已成功打破了國外廠商對(duì)集成電路領(lǐng)域化學(xué)機(jī)械拋光液、部分功能性濕電子化學(xué)品,、電鍍液及添加劑的壟斷,,三大核心產(chǎn)品在特定領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)技術(shù)突破。鼎龍股份已成長為國內(nèi)唯一一家全面掌握拋光墊全流程核心研發(fā)和制造技術(shù)的CMP拋光墊供應(yīng)商,。2024年度業(yè)績(jī)預(yù)告顯示,,鼎龍股份CMP拋光墊銷售收入約7.31億元,同比增長約75%,;CMP拋光液,、清洗液合計(jì)銷售收入約2.16億元,,同比增長約180%,。


除了安集科技,、鼎龍股份外,國內(nèi)尚有上海新陽,、萬華化學(xué),、江豐電子等幾十家企業(yè)正積極參與到CMP拋光材料的國產(chǎn)化替代工作之中。


鼎龍股份拋光液和拋光墊產(chǎn)品


目前來看,,關(guān)稅對(duì)戰(zhàn)下雖然短期內(nèi)加劇CMP行業(yè)的成本壓力與市場(chǎng)波動(dòng),,但中長期將加速國產(chǎn)替代進(jìn)程。頭部企業(yè)憑借技術(shù)突破與全球化布局有望受益,,而政策支持與內(nèi)需擴(kuò)張為行業(yè)提供結(jié)構(gòu)性機(jī)會(huì),。


03.未來發(fā)展


在當(dāng)前全球關(guān)稅升級(jí)與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博弈加劇的背景下,我國CMP行業(yè)既面臨挑戰(zhàn)也蘊(yùn)含機(jī)遇,。技術(shù)上,,可通過“政產(chǎn)學(xué)研”聯(lián)合攻關(guān),強(qiáng)化專利布局,;供應(yīng)鏈上,,加速國產(chǎn)替代,建立“材料-設(shè)備-晶圓廠”垂直驗(yàn)證體系,,縮短認(rèn)證周期,。力爭(zhēng)早日實(shí)現(xiàn)CMP設(shè)備及材料國產(chǎn)化率的持續(xù)突破,并最終完成從“進(jìn)口替代”到“技術(shù)輸出”的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型,。


參考來源:粉體大數(shù)據(jù)研究,、粉體網(wǎng)、CMP拋光資訊


(中國粉體網(wǎng)/山川)

注:圖片非商業(yè)用途,,存在侵權(quán)告知?jiǎng)h除


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作者:山川

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