中國粉體網(wǎng)訊 據(jù)美國白宮最新發(fā)布的一項行政命令顯示,特朗普對中國征收的關(guān)稅總額為145%,而不是之前所說的125%,。
隨后,中方?jīng)Q定對美所有進口商品加征125%關(guān)稅,,并表示:在目前關(guān)稅水平下,,美國輸華商品已無市場接受可能性。如果美方繼續(xù)關(guān)稅數(shù)字游戲,,中方將不予理會,。
在這場沒有硝煙的戰(zhàn)爭中,CMP拋光作為半導(dǎo)體制程中的重要一環(huán),正面臨怎樣的變局,?
01.行業(yè)現(xiàn)狀
當前,,化學(xué)機械拋光技術(shù)(CMP)是唯一可以實現(xiàn)全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù),隨著集成電路元件的最小特征尺寸縮小到7nm甚至5nm,,CMP技術(shù)在過去的幾十年中得到了突飛猛進的發(fā)展,,其拋光工藝已達到納米級,被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體加工制程,,成為納米級集成電路制造的標準過程,,促進了集成電路技術(shù)和摩爾定律的穩(wěn)步發(fā)展。
其中,,拋光設(shè)備及拋光材料是CMP工藝過程中最關(guān)鍵要素,。其性能和相互之間的匹配決定了CMP中的材料去除率和拋光后的表面質(zhì)量。
設(shè)備方面,,目前全球CMP設(shè)備市場主要由美國應(yīng)用材料和日本荏原占據(jù),,處于高度壟斷狀態(tài)。根據(jù)Gartner數(shù)據(jù),,上述兩家制造商的CMP設(shè)備全球市場占有率超過90%,,尤其在14nm以下先進制程工藝產(chǎn)線上使用的CMP設(shè)備主要由美國應(yīng)用材料和日本荏原兩家國際巨頭提供。
中國大陸2022年CMP設(shè)備市場規(guī)模達6.66億美元,,預(yù)計2025年中國CMP設(shè)備市場規(guī)模將突破93億元,,年增速近20%。但目前絕大部分高端CMP設(shè)備仍然依賴于進口,,主要由美國應(yīng)用材料和日本荏原兩家提供,。
全球CMP拋光液市場企業(yè)占比
全球CMP拋光墊市場企業(yè)占比
拋光耗材方面,目前國產(chǎn)化率仍較低,,拋光液市場主要被CMC Materials,、Resonac、Versum和Fujimi等美日企業(yè)壟斷,,拋光墊全球市場市場份額則主要被杜邦占據(jù),。
目前,CMP領(lǐng)域成為國產(chǎn)替代任務(wù)最為緊迫的領(lǐng)域之一,。
02.關(guān)稅大戰(zhàn)后對我國CMP行業(yè)的影響
由于美國不斷加征關(guān)稅以及中國霸氣反擊,,中國從美國采購CMP設(shè)備及拋光材料的成本必然陡增。
據(jù)專業(yè)人士透露,,若美系設(shè)備采購成本增加20%,,其28納米制程的毛利率可能下降5個百分點。國內(nèi)晶圓廠勢必將面臨兩難選擇:高價采購美系產(chǎn)品擠壓利潤,,或轉(zhuǎn)向日韓,、歐洲供應(yīng)商(如日本荏原),,但后者同樣面臨技術(shù)適配性和產(chǎn)能限制。
在此背景下,,中國CMP產(chǎn)業(yè)或迎來國產(chǎn)替代窗口期,。
設(shè)備方面,華海清科2024年營收達34.14億元,,同比增長36.12%,,公司歸因于“成功把握市場機遇,CMP產(chǎn)品市場占有率和銷售規(guī)模持續(xù)提高,,同時新產(chǎn)品研發(fā)和銷售進展順利”,。晶亦精微亦形成了完整的CMP技術(shù)體系,具備8英寸,、12英寸,、6/8英寸兼容CMP工藝研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化能力。
晶亦精微CMP設(shè)備
材料方面,,安集科技作為國內(nèi)CMP拋光液領(lǐng)軍者,,一直在不斷加大研發(fā)投入,拓寬產(chǎn)品布局,,橫向拓寬產(chǎn)品線打造半導(dǎo)體材料平臺,,現(xiàn)已成功打破了國外廠商對集成電路領(lǐng)域化學(xué)機械拋光液,、部分功能性濕電子化學(xué)品,、電鍍液及添加劑的壟斷,三大核心產(chǎn)品在特定領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)技術(shù)突破,。鼎龍股份已成長為國內(nèi)唯一一家全面掌握拋光墊全流程核心研發(fā)和制造技術(shù)的CMP拋光墊供應(yīng)商,。2024年度業(yè)績預(yù)告顯示,鼎龍股份CMP拋光墊銷售收入約7.31億元,,同比增長約75%,;CMP拋光液、清洗液合計銷售收入約2.16億元,,同比增長約180%,。
除了安集科技、鼎龍股份外,,國內(nèi)尚有上海新陽,、萬華化學(xué)、江豐電子等幾十家企業(yè)正積極參與到CMP拋光材料的國產(chǎn)化替代工作之中,。
鼎龍股份拋光液和拋光墊產(chǎn)品
目前來看,,關(guān)稅對戰(zhàn)下雖然短期內(nèi)加劇CMP行業(yè)的成本壓力與市場波動,但中長期將加速國產(chǎn)替代進程,。頭部企業(yè)憑借技術(shù)突破與全球化布局有望受益,,而政策支持與內(nèi)需擴張為行業(yè)提供結(jié)構(gòu)性機會,。
03.未來發(fā)展
在當前全球關(guān)稅升級與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博弈加劇的背景下,我國CMP行業(yè)既面臨挑戰(zhàn)也蘊含機遇,。技術(shù)上,,可通過“政產(chǎn)學(xué)研”聯(lián)合攻關(guān),強化專利布局,;供應(yīng)鏈上,,加速國產(chǎn)替代,建立“材料-設(shè)備-晶圓廠”垂直驗證體系,,縮短認證周期,。力爭早日實現(xiàn)CMP設(shè)備及材料國產(chǎn)化率的持續(xù)突破,并最終完成從“進口替代”到“技術(shù)輸出”的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型,。
參考來源:粉體大數(shù)據(jù)研究,、粉體網(wǎng)、CMP拋光資訊
(中國粉體網(wǎng)/山川)
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