中國粉體網(wǎng)訊  化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing, CMP）是一種結(jié)合化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨的表面處理技術(shù),，是實(shí)現(xiàn)材料高精度平坦化的有效途徑,。磨料在拋光過程中通過微切削,、微擦劃,、滾壓等方式作用于被加工材料表面，達(dá)到機(jī)械去除材料的作用,。

以二氧化鈰為核心的稀土拋光磨料因其硬度適中,、反應(yīng)活性高、選擇性高而表現(xiàn)出具有更高的切削速度,、拋光精度和表面光潔度,，在半導(dǎo)體、光學(xué)元件,、液晶顯示屏等高端制造領(lǐng)域不可替代。全球電子產(chǎn)品（如智能手機(jī),、平板電腦,、新能源汽車等）爆發(fā)式增長，半導(dǎo)體市場大規(guī)模擴(kuò)張,，帶動(dòng)了稀土拋光材料需求的激增,。

現(xiàn)存拋光材料存在磨料粒度分布寬、分散性差，拋光液懸浮穩(wěn)定性差問題,，這嚴(yán)重制約了我國稀土拋光材料的應(yīng)用,。研究表明，磨料顆粒的形貌,、尺寸,、分散懸浮性能以及二氧化鈰中鈰離子含量對(duì)拋光去除率和表面粗糙度有著重要影響。因此,，設(shè)計(jì)和開發(fā)新型高性能稀土拋光磨料,，對(duì)其粒度、形貌進(jìn)行嚴(yán)格控制,，并對(duì)其化學(xué)活性實(shí)現(xiàn)有效調(diào)控,、抑制磨料顆粒間的團(tuán)聚來提高磨料分散懸浮穩(wěn)定性，是提升拋光效率和降低表面缺陷的重要途徑,，也是實(shí)現(xiàn)稀土拋光材料高端化的重要方向,。

研磨拋光技術(shù)在集成電路芯片的制作中具有重要作用，針對(duì)高端研磨拋光相關(guān)的技術(shù),、材料,、設(shè)備、市場等方面的問題,，中國粉體網(wǎng)將于2025年4月16日在河南鄭州舉辦2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會(huì),。屆時(shí)，包頭稀土研究院高級(jí)工程師李曉佩將作題為《鈰基稀土拋光材料設(shè)計(jì)合成及拋光性能調(diào)控》的報(bào)告,。

專家簡介：

李曉佩,，包頭稀土研究院高級(jí)工程師，主要從事鈰基稀土拋光材料的設(shè)計(jì)制備,、性能優(yōu)化及其產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用研究,。中國稀土學(xué)會(huì)稀土高性能制造專委會(huì)委員、中國化學(xué)會(huì)會(huì)員,、內(nèi)蒙古稀土學(xué)會(huì)會(huì)員,、九三學(xué)社包頭市委參政議政研究員。主持包頭市項(xiàng)目1項(xiàng),、北方稀土項(xiàng)目1項(xiàng),，參與國家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目1項(xiàng)、內(nèi)蒙古科技重大專項(xiàng)1項(xiàng),、北方稀土項(xiàng)目2項(xiàng),。發(fā)表期刊論文十余篇，申請(qǐng)國家發(fā)明專利十余項(xiàng),。2024年獲內(nèi)蒙古自治區(qū)“英才興蒙”六層次人才稱號(hào),，2023年獲包頭市青年創(chuàng)新人才榮譽(yù),，獲得中國稀土學(xué)會(huì)優(yōu)秀報(bào)告2次，獲得包頭稀土研究院女職工雙文明建功立業(yè)先進(jìn)個(gè)人2次,，獲得全國高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)“優(yōu)秀墻報(bào)獎(jiǎng)”2次,，獲得九三學(xué)社包頭市2024年度參政議政工作先進(jìn)個(gè)人。

參考來源：

[1] 中國粉體網(wǎng)

[2] 燕禾等,，化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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