中國粉體網(wǎng)訊 近日,，由奧趨光電技術(shù)（杭州）有限公司牽頭起草的標(biāo)準(zhǔn)T/CASAS 053—202X《氮化鋁晶片位錯密度檢測方法腐蝕坑密度測量法》,、由中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所牽頭起草的標(biāo)準(zhǔn)T/CASAS 054—202X《氮化鋁晶片吸收系數(shù)測試方法》已完成征求意見稿的編制，正式面向北京第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟成員單位征求意見，非聯(lián)盟成員單位如有需要,，可發(fā)送郵件,。
氮化物寬禁帶半導(dǎo)體，包括氮化鎵（GaN）,、氮化鋁（AlN）等,，在藍(lán)光－紫外光電器件、高頻大功率電子器件等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用,。AlN具有高絕緣性,、高熱導(dǎo)率、高紫外透射率,、較強(qiáng)的抗輻射能力以及高化學(xué)穩(wěn)定性與熱穩(wěn)定性等優(yōu)良特性,，其原料來源豐富且無污染，可廣泛應(yīng)用于微電子與光電子領(lǐng)域,。
奧趨光電技術(shù)（杭州）有限公司始創(chuàng)于2016年5月,，是一家由半導(dǎo)體領(lǐng)域頂尖技術(shù)專家、海外歸國學(xué)者團(tuán)隊(duì)領(lǐng)銜創(chuàng)立的高科技創(chuàng)新型企業(yè),，奧趨光電核心專注于第三代/第四代超寬禁帶半導(dǎo)體氮化鋁單晶晶圓襯底材料,、硅基/藍(lán)寶石基/碳化硅基氮化鋁及鋁鈧氮薄膜模板、全自動氮化鋁PVT氣相沉積爐及其相關(guān)產(chǎn)品的研發(fā),、制造與銷售,。
奧趨光電官網(wǎng)
奧趨光電牽頭起草的T/CASAS 053—202X《氮化鋁晶片位錯密度檢測方法腐蝕坑密度測量法》描述了用擇優(yōu)化腐蝕技術(shù)測試氮化鋁拋光片中位錯密度的方法，包括方法原理,、儀器設(shè)備,、測試條件、樣品,、測試步驟,、結(jié)果計(jì)算和測試報(bào)告。該文件適用于拋光加工后位錯密度小于10*7個(gè)/cm2的氮化鋁拋光片位錯密度的測試,，適用于1英寸,、2英寸、3英寸,、4英寸直徑氮化鋁拋光片的測試,。氮化鋁外延片可參照使用。
中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所于1960年9月6日在北京成立,，擁有兩個(gè)國家級研究中心—國家光電子工藝中心,、光電子器件國家工程研究中心；兩個(gè)全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室——光電子材料與器件全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,、半導(dǎo)體芯片物理與技術(shù)全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,；一個(gè)院級實(shí)驗(yàn)室——中國科學(xué)院固態(tài)光電信息技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,。此外，還設(shè)有納米光電子實(shí)驗(yàn)室,、人工智能與高速電路實(shí)驗(yàn)室,、光電系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室、全固態(tài)光源實(shí)驗(yàn)室,、寬禁帶半導(dǎo)體研發(fā)中心,、光電子工程中心、半導(dǎo)體集成技術(shù)工程研究中心和元器件檢測中心,。
中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所官網(wǎng)
半導(dǎo)體所牽頭起草的T/CASAS 054—202X《氮化鋁晶片吸收系數(shù)測試方法》描述了氮化鋁（AlN）拋光片光吸收系數(shù)的測試方法,，包括原理、儀器設(shè)備,、測試條件,、樣品、測試步驟,、結(jié)果計(jì)算和測試報(bào)告,。該文件適用于氮化鋁拋光片的光學(xué)質(zhì)量控制和評估。氮化鋁外延片可參照使用,。
參考來源：
[1] 付潤定,，AlN體單晶的性質(zhì)、拋光與外延研究
[2] 奧趨光電官網(wǎng),、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)戰(zhàn)略聯(lián)盟,、中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所官網(wǎng)
（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）
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