中國粉體網(wǎng)訊  近日,，投資者就立昂微三大板塊的最新產(chǎn)能問題向立昂微提問,，公司表示，公司在第三季度業(yè)績說明會上回復(fù)的產(chǎn)能規(guī)劃,，均按照當(dāng)時回復(fù)的規(guī)劃進(jìn)度正常建設(shè)，目前6英寸拋光片(含襯底片)產(chǎn)能60萬片/月,、8英寸拋光片(含襯底片)產(chǎn)能57萬片/月。

化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)作為一種工業(yè)上實現(xiàn)超精密機(jī)械加工的技術(shù),，因其能夠完美地兼顧全局平坦化,、材料表面缺陷及使用可靠性,，而廣泛應(yīng)用于精密光學(xué),、航空航天、信息技術(shù)等領(lǐng)域,。

CMP工藝

來源：王林,，拋光墊微觀接觸對化學(xué)機(jī)械拋光材料去除的影響及其跨尺度建模方法

拋光墊又稱拋光皮、拋光布,、拋光片,，化學(xué)機(jī)械拋光中決定表面質(zhì)量的重要輔料。CMP過程中化學(xué)作用進(jìn)行表面侵蝕軟化,，機(jī)械作用進(jìn)行材料磨除,，在這個過程中拋光墊主要起到兩方面的作用,，既承載化學(xué)拋光液及反應(yīng)產(chǎn)物,，又傳遞加工載荷，保證拋光過程的平穩(wěn)進(jìn)行,，因此拋光墊的微形貌變化和局部的變質(zhì)會直接影響磨粒和拋光液對加工材料的效果,。所以，合理地選擇和使用拋光墊,，對控制和優(yōu)化化學(xué)機(jī)械拋光過程及實現(xiàn)高效,、高質(zhì)量加工具有重要的意義。

杭州立昂微電子股份有限公司是2002年3月在杭州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)注冊成立的專注于集成電路用半導(dǎo)體材料,、半導(dǎo)體功率芯片,、集成電路芯片設(shè)計、開發(fā),、制造,、銷售的高新技術(shù)企業(yè)，創(chuàng)始人為我國半導(dǎo)體材料學(xué)科開拓者闕端麟院士,。公司于2020年9月11日在上海證券交易所主板A股掛牌上市,，擁有杭州、寧波,、衢州,、嘉興,、海寧五大經(jīng)營基地,，下轄杭州立昂東芯微電子有限公司,、海寧立昂東芯微電子有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司,、金瑞泓科技（衢州）有限公司,、金瑞泓微電子（衢州）有限公司、金瑞泓微電子（嘉興）有限公司,、杭州立昂半導(dǎo)體技術(shù)有限公司,、衢州金瑞泓半導(dǎo)體科技有限公司八家子公司。公司建有浙江省重點(diǎn)企業(yè)研究院——“浙江省立昂微波射頻集成電路企業(yè)研究院”,、金瑞泓院士工作站,、金瑞泓博士后企業(yè)工作站。

 來源：立昂微官網(wǎng)

2022年,，其子公司浙江金瑞泓科技股份有限公司就已全面拉通6英寸硅拋光片月產(chǎn)15萬片的生產(chǎn)線,，并有效提升產(chǎn)能，新增6英寸硅拋光片月產(chǎn)15萬片的產(chǎn)能,。目前,，公司除實現(xiàn)6英寸拋光片(含襯底片)產(chǎn)能60萬片/月、8英寸拋光片(含襯底片)產(chǎn)能57萬片/月以外,，6-8英寸(兼容)外延片產(chǎn)能已達(dá)70萬片/月,，預(yù)計2025年3月底前達(dá)到90萬片/月。

參考來源：

[1] 金融界,、合成材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院,、鼎龍股份官網(wǎng)、立昂微官網(wǎng)

[2] 許寧等,，CeO2基磨粒在化學(xué)機(jī)械拋光中的研究進(jìn)展

[3] 王林,，拋光墊微觀接觸對化學(xué)機(jī)械拋光材料去除的影響及其跨尺度建模方法

[4] 梁斌等，CMP拋光墊表面及材料特性對拋光效果影響的研究進(jìn)展

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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