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萬華化學(xué)申請(qǐng)新專利,!長時(shí)間高速率的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液


來源:中國粉體網(wǎng)   空青

[導(dǎo)讀]  萬華化學(xué)集團(tuán)股份有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種長時(shí)間高速率的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液及其應(yīng)用“,公開號(hào)CN117947422A

中國粉體網(wǎng)訊  據(jù)國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告,,萬華化學(xué)集團(tuán)股份有限公司(以上簡稱:萬華化學(xué))申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種長時(shí)間高速率的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液及其應(yīng)用“,,公開號(hào)CN117947422A,。



專利摘要顯示,,本發(fā)明公開了一種長時(shí)間高速率的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液及其應(yīng)用,,所述鎢化學(xué)機(jī)械拋光液包含如下質(zhì)量百分含量的組分:0.1%-5%研磨劑,、0.5~5%的氧化劑,、0.001%~0.05%的鎢催化劑、0.01%-0.05%的穩(wěn)定劑,、0.005%-0.05%的表面質(zhì)量改善劑,、0.001%-0.003%的氧化酶、余量為去離子水,。本發(fā)明的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液具有長時(shí)間高速率且表面質(zhì)量好的特點(diǎn),。


隨著集成電路的不斷發(fā)展,加工精度的細(xì)微化和電路功能的復(fù)雜化,,多層化,、高性能的三維立體結(jié)構(gòu)已成為布線的發(fā)展趨勢(shì)。在高電流密度下,,金屬鎢抗電子遷移好,,不形成小丘、應(yīng)力低,,而且能夠與硅形成很好的歐姆接觸,,其作為多層布線中的接觸窗及介層洞的填充金屬材料,,已經(jīng)被廣泛接受。鎢拋光液主要用于制造存儲(chǔ)芯片,,在邏輯芯片中只用于部分工藝段,,在FAB廠鎢化學(xué)拋光液一般不會(huì)現(xiàn)配現(xiàn)用,通常會(huì)在tank桶里加入拋光液和氧化劑混合,,然后再使用,。一桶tank拋光液使用需要一周左右時(shí)間,而這么長的時(shí)間不可避免的會(huì)使雙氧水分解,,而雙氧水的分解會(huì)導(dǎo)致雙氧水含量的降低,,進(jìn)一步使的氧化能力下降,致使拋光速率下降,。


目前,,F(xiàn)AB廠商為了提升產(chǎn)能,各大FAB廠家對(duì)鎢化學(xué)拋光液的要求是盡可能長時(shí)間具有穩(wěn)定的高拋光速率,,從而提升產(chǎn)量,。但高拋光速率的前提下不可避免的會(huì)帶來表面質(zhì)量較差的問題,因此如何獲得一款具有長時(shí)間高拋光速率且表面質(zhì)量好的鎢化學(xué)拋光液是非常必要的,。


本發(fā)明提供了一種長時(shí)間高速率,、又表面質(zhì)量好的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液,通過添加一種氧化酶和表面質(zhì)量改善劑,,能保證鎢化學(xué)機(jī)械拋光液具有長時(shí)間高拋光速率且優(yōu)異的表面質(zhì)量,。


在整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)及半導(dǎo)體材料的迅速增長的帶動(dòng)下,全球化學(xué)機(jī)械拋光液呈現(xiàn)出快速增長態(tài)勢(shì),。早在2020年,,萬華化學(xué)基于其本身在國內(nèi)化工行業(yè)的領(lǐng)頭地位,在煙臺(tái)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi)布局大規(guī)模集成電路平坦化關(guān)鍵材料(拋光墊+拋光液)項(xiàng)目,,建成后拋光液有望實(shí)現(xiàn)1.5-2萬噸/年產(chǎn)能,。


萬華化學(xué)在IC半導(dǎo)體領(lǐng)域持續(xù)研發(fā),全力攻關(guān)拋光材料,、先進(jìn)封裝材料,、光刻膠三大核心材料,目前已成功自主開發(fā)了應(yīng)用于高端拋光墊的聚氨酯,,并可通過配方調(diào)控,,提升產(chǎn)品性能;并且聚焦拋光液生產(chǎn)的全工藝流程提升,,硅拋光液產(chǎn)品具有研磨速率優(yōu)異,、金屬污染低、表面粗糙度低及循環(huán)穩(wěn)定性優(yōu)異的特點(diǎn)。


來源:國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局,、萬華化學(xué),、金融界


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/空青)

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作者:空青

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