中國粉體網(wǎng)訊  鈣鈦礦電池降本增效前景無限，單結(jié)覆蓋BIPV等特殊場景,，疊層賦能晶硅進(jìn)一步提效,。鈣鈦礦電池具有轉(zhuǎn)換效率上限高、吸光能力強(qiáng),、帶隙可調(diào)節(jié),、材料成本低、生產(chǎn)流程短等優(yōu)勢,。我們認(rèn)為,，短期單結(jié)鈣鈦礦有望率先應(yīng)用于BIPV和CIPV等特殊場景，中長期鈣鈦礦與晶硅電池疊層有望賦能光伏行業(yè)進(jìn)一步提效,。我們預(yù)計(jì),，2030年鈣鈦礦（單結(jié)&疊層）產(chǎn)能將達(dá)到443.33GW。  關(guān)鍵假設(shè)：

1）我們預(yù)計(jì)2023-2025年全球新增光伏裝機(jī)量分別為350/450/550GW,，假設(shè)2025-2030年全球新增光伏裝機(jī)量復(fù)合增速為12.5%,，假設(shè)容配比為1.25； 

2）參考過去產(chǎn)能利用率,，假設(shè)2023-2025年組件產(chǎn)能利用率為60%,，2026-2030年隨著光伏裝機(jī)增速放緩，競爭格局趨于穩(wěn)定,，產(chǎn)能利用率逐步提升至70%,； 

3）假設(shè)2022-2030年鈣鈦礦滲透率逐步由0.12%提升至25%；

工藝端技術(shù)路線尚未統(tǒng)一,，鍍膜工藝為核心,。鈣鈦礦生產(chǎn)流程可簡化為在TCO玻璃襯底（單結(jié)）或硅基（疊層）襯底上先后沉積空穴傳輸層、鈣鈦礦層,、電子傳輸層,、導(dǎo)電層和背電極，其中穿插激光刻蝕工藝起到切割,、開槽和清邊作用,，最后進(jìn)行封裝測試。1）鍍膜工藝：鈣鈦礦電池鍍膜的常見工藝包括以刮涂,、狹縫涂布為代表的濕法鍍膜工藝和以PVD,、蒸鍍、RPD,、ALD等為代表的干法鍍膜工藝,。從實(shí)際產(chǎn)業(yè)化情況看，目前鈣鈦礦層通常采用狹縫涂布或真空蒸鍍的方式沉積,，而空穴傳輸層、電子傳輸層可分別使用PVD和RPD/ALD工藝沉積,。鈣鈦礦各膜層的沉積方式與鈣鈦礦材料體系選擇息息相關(guān),，未來隨著鈣鈦礦技術(shù)和材料體系變化,，各類鍍膜工藝均有應(yīng)用空間。2）激光刻蝕：鈣鈦礦電池涉及四道激光刻蝕工序,，其中P1,、P2、P3激光劃線目的是將部分膜層打開,，把大面積鈣鈦礦電池分割為多個(gè)子電池,，并使多個(gè)子電池形成串聯(lián)結(jié)構(gòu)，而P4激光工序主要起到清邊作用,，為后道封裝前提,。 

上下游產(chǎn)研聯(lián)動，產(chǎn)業(yè)化雛形已現(xiàn),。隨著國內(nèi)鈣鈦礦電池技術(shù)突飛猛進(jìn),，技術(shù)產(chǎn)業(yè)化有提速趨勢，以協(xié)鑫光電,、纖納光電,、極電光能等一大批優(yōu)秀企業(yè)先后落地鈣鈦礦百兆瓦中試線，并取得優(yōu)秀的效率表現(xiàn),，目前頭部各家GW級產(chǎn)線均已規(guī)劃建設(shè),，預(yù)計(jì)2024年有望落地。同時(shí),，傳統(tǒng)晶硅企業(yè)依托在晶硅電池上的技術(shù)積累,，主攻疊層方向，但多數(shù)仍處在實(shí)驗(yàn)室階段,。

設(shè)備端,，業(yè)內(nèi)企業(yè)前瞻性布局鈣鈦礦鍍膜、激光等設(shè)備,，產(chǎn)品快速迭代升級,，京山輕機(jī)、捷佳偉創(chuàng),、德龍激光等領(lǐng)先企業(yè)均已取得訂單并實(shí)現(xiàn)出貨,。材料端，TCO玻璃作為單結(jié)鈣鈦礦電池襯底,，成本占比居第一位,，金晶科技在2022年5月已經(jīng)實(shí)現(xiàn)自主知識產(chǎn)權(quán)的TCO玻璃產(chǎn)線投產(chǎn)，耀皮玻璃通過收購也具備TCO玻璃供應(yīng)能力,；鈣鈦礦各膜層所需金屬靶材,、TCO靶材也有優(yōu)秀企業(yè)可供應(yīng)。

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/星耀）

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