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鈣鈦礦:第三代光伏技術(shù),,產(chǎn)業(yè)化雛形已現(xiàn)


來源:東方財富證券

[導讀]  鈣鈦礦電池降本增效前景無限,,單結(jié)覆蓋BIPV等特殊場景,疊層賦能晶硅進一步提效,。

中國粉體網(wǎng)訊  鈣鈦礦電池降本增效前景無限,單結(jié)覆蓋BIPV等特殊場景,,疊層賦能晶硅進一步提效,。鈣鈦礦電池具有轉(zhuǎn)換效率上限高、吸光能力強,、帶隙可調(diào)節(jié),、材料成本低、生產(chǎn)流程短等優(yōu)勢,。我們認為,,短期單結(jié)鈣鈦礦有望率先應用于BIPV和CIPV等特殊場景,中長期鈣鈦礦與晶硅電池疊層有望賦能光伏行業(yè)進一步提效,。我們預計,,2030年鈣鈦礦(單結(jié)&疊層)產(chǎn)能將達到443.33GW。  關(guān)鍵假設:


1)我們預計2023-2025年全球新增光伏裝機量分別為350/450/550GW,,假設2025-2030年全球新增光伏裝機量復合增速為12.5%,,假設容配比為1.25; 


2)參考過去產(chǎn)能利用率,,假設2023-2025年組件產(chǎn)能利用率為60%,,2026-2030年隨著光伏裝機增速放緩,競爭格局趨于穩(wěn)定,,產(chǎn)能利用率逐步提升至70%,; 


3)假設2022-2030年鈣鈦礦滲透率逐步由0.12%提升至25%,;



工藝端技術(shù)路線尚未統(tǒng)一,鍍膜工藝為核心,。鈣鈦礦生產(chǎn)流程可簡化為在TCO玻璃襯底(單結(jié))或硅基(疊層)襯底上先后沉積空穴傳輸層,、鈣鈦礦層、電子傳輸層,、導電層和背電極,,其中穿插激光刻蝕工藝起到切割、開槽和清邊作用,,最后進行封裝測試,。1)鍍膜工藝:鈣鈦礦電池鍍膜的常見工藝包括以刮涂、狹縫涂布為代表的濕法鍍膜工藝和以PVD,、蒸鍍,、RPD、ALD等為代表的干法鍍膜工藝,。從實際產(chǎn)業(yè)化情況看,,目前鈣鈦礦層通常采用狹縫涂布或真空蒸鍍的方式沉積,而空穴傳輸層,、電子傳輸層可分別使用PVD和RPD/ALD工藝沉積,。鈣鈦礦各膜層的沉積方式與鈣鈦礦材料體系選擇息息相關(guān),未來隨著鈣鈦礦技術(shù)和材料體系變化,,各類鍍膜工藝均有應用空間,。2)激光刻蝕:鈣鈦礦電池涉及四道激光刻蝕工序,其中P1,、P2,、P3激光劃線目的是將部分膜層打開,把大面積鈣鈦礦電池分割為多個子電池,,并使多個子電池形成串聯(lián)結(jié)構(gòu),,而P4激光工序主要起到清邊作用,為后道封裝前提,。 


上下游產(chǎn)研聯(lián)動,,產(chǎn)業(yè)化雛形已現(xiàn)。隨著國內(nèi)鈣鈦礦電池技術(shù)突飛猛進,,技術(shù)產(chǎn)業(yè)化有提速趨勢,,以協(xié)鑫光電、纖納光電,、極電光能等一大批優(yōu)秀企業(yè)先后落地鈣鈦礦百兆瓦中試線,,并取得優(yōu)秀的效率表現(xiàn),目前頭部各家GW級產(chǎn)線均已規(guī)劃建設,,預計2024年有望落地,。同時,,傳統(tǒng)晶硅企業(yè)依托在晶硅電池上的技術(shù)積累,主攻疊層方向,,但多數(shù)仍處在實驗室階段,。



設備端,業(yè)內(nèi)企業(yè)前瞻性布局鈣鈦礦鍍膜,、激光等設備,,產(chǎn)品快速迭代升級,京山輕機,、捷佳偉創(chuàng),、德龍激光等領(lǐng)先企業(yè)均已取得訂單并實現(xiàn)出貨。材料端,,TCO玻璃作為單結(jié)鈣鈦礦電池襯底,,成本占比居第一位,,金晶科技在2022年5月已經(jīng)實現(xiàn)自主知識產(chǎn)權(quán)的TCO玻璃產(chǎn)線投產(chǎn),,耀皮玻璃通過收購也具備TCO玻璃供應能力;鈣鈦礦各膜層所需金屬靶材,、TCO靶材也有優(yōu)秀企業(yè)可供應,。


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/星耀)

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