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清華大學(xué)材料學(xué)院在無(wú)鉛壓電陶瓷缺陷調(diào)控方面取得進(jìn)展


來(lái)源:清華大學(xué)

[導(dǎo)讀]  近日,,清華大學(xué)材料學(xué)院對(duì)KNN材料的缺陷化學(xué)環(huán)境進(jìn)行理論分析,,得出了A位缺陷濃度、氧空位濃度,、電子濃度和空穴濃度在不同氧分壓區(qū)間和氧分壓的關(guān)系,,并根據(jù)該關(guān)系提出了比較兩種鈣鈦礦A位缺陷濃度的測(cè)試分析方法,。

中國(guó)粉體網(wǎng)訊  鐵電鈣鈦礦具有獨(dú)特的自發(fā)極化和疇翻轉(zhuǎn)性等,,是非常重要的鐵電體。而缺陷調(diào)控是對(duì)鐵電鈣鈦礦進(jìn)行性能優(yōu)化的有力手段,。在鋯鈦酸鉛,、鈦酸鋇、鈦酸鉍鈉等材料中,,對(duì)于氧空位和A位缺陷的研究已相對(duì)成熟,。近些年,,環(huán)境友好且綜合性能優(yōu)異的鈮酸鉀鈉(KNN)壓電陶瓷逐漸占據(jù)壓電市場(chǎng),。然而對(duì)于KNN的A位缺陷研究尚屬空白,一方面,,純KNN難以制備,,定量調(diào)控A位缺陷制備KNN難度更高;另一方面,,學(xué)界尚缺乏對(duì)堿金屬空位缺陷的定量表征手段和分析方法,。


近日,清華大學(xué)材料學(xué)院對(duì)KNN材料的缺陷化學(xué)環(huán)境進(jìn)行理論分析,,得出了A位缺陷濃度,、氧空位濃度,、電子濃度和空穴濃度在不同氧分壓區(qū)間和氧分壓的關(guān)系,并根據(jù)該關(guān)系提出了比較兩種鈣鈦礦A位缺陷濃度的測(cè)試分析方法,。結(jié)果表明,,在同一氧分壓區(qū)間內(nèi)對(duì)兩種鈣鈦礦進(jìn)行電導(dǎo)率測(cè)試,電導(dǎo)率-氧分壓斜率越陡峭代表材料中A位缺陷濃度越低(圖1),。將此方法應(yīng)用于KNN中,,對(duì)KNN和A位過(guò)量的KNN(KNN-Na)進(jìn)行電導(dǎo)率比較,可以發(fā)現(xiàn)KNN-Na的電導(dǎo)率斜率較KNN陡峭,,KNN-Na中A位缺陷較低,。這與實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)和ICP測(cè)試結(jié)果一致。


圖1.本文提出的A2O型缺陷化學(xué)Brouwer示意圖及其缺陷分析應(yīng)用方法


進(jìn)一步比較兩種A位缺陷濃度不同的KNN陶瓷可以發(fā)現(xiàn),,KNN-Na中存在介電異常行為,,即在O-T相變溫度后存在一處明顯的介電常數(shù)峰。該異常行為受到頻率的顯著影響,,異常行為主要發(fā)生在低頻,,該頻率范圍對(duì)應(yīng)界面極化響應(yīng)。對(duì)阻抗數(shù)據(jù)的分析和計(jì)算顯示,,在KNN-Na中界面極化響應(yīng)比較明顯(圖2),。顯然,這種界面極化是由于缺陷環(huán)境變化所導(dǎo)致的,。該研究為今后鈣鈦礦及其他氧化物材料的缺陷分析提供了新思路,。


圖2.缺陷調(diào)控下的無(wú)鉛壓電陶瓷KNN異常介電行為及產(chǎn)生機(jī)理


近日,相關(guān)成果以“利用缺陷調(diào)控識(shí)別非化學(xué)計(jì)量比無(wú)鉛鈣鈦礦中的界面極化”(Identifying the Interfacial Polarization in Non-stoichiometric Lead-Free Perovskites by Defect Engineering)為題發(fā)表在國(guó)際知名期刊《應(yīng)用化學(xué)》(Angewandte Chemie)上,。


清華大學(xué)材料學(xué)院2020級(jí)博士生徐澤為文章的第一作者,。清華大學(xué)王軻研究員、德國(guó)達(dá)姆施塔特工業(yè)大學(xué)提爾·弗洛姆林(Till Frömling)博士,、美國(guó)伊利諾伊理工大學(xué)王衡助理教授為文章的共同通訊作者,。論文的重要合作者還包括清華大學(xué)李敬鋒教授、唐子龍教授,、張中太教授,、岳振星教授等。本研究得到了國(guó)家自然基金委科學(xué)中心,、重點(diǎn)項(xiàng)目,,國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、北京市自然科學(xué)基金等的支持,。


論文鏈接:https://doi.org/10.1002/anie.202216776


(中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山川)

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