中國(guó)粉體網(wǎng)訊 石英晶體在形成過(guò)程中,，一些元素會(huì)替代硅元素進(jìn)入石英晶體中,，形成了石英的結(jié)構(gòu)性雜質(zhì)。這些雜質(zhì)含量雖然很低,，但從石英中分離難度大,，是制約高純石英質(zhì)量最關(guān)鍵性因素。
在石英結(jié)構(gòu)性雜質(zhì)中,，Al雜質(zhì)元素含量一般最高,。由于Al是以Al3+替代Si4+的形式存在，引起了石英晶格內(nèi)部電荷不平衡,，當(dāng)石英中存在大量Al雜質(zhì)時(shí),，Li,、K、Na等雜質(zhì)元素的含量會(huì)增加,。因此可以使用天然石英中Al的含量來(lái)判斷石英原料的質(zhì)量,。
石英晶體中的晶格取代形式
在現(xiàn)有加工技術(shù)下,，石英原料中晶格雜質(zhì)幾乎不能被除去,。以晶格雜質(zhì)形式存在的Al元素含量雖然極低但除去難度極大，是制約高純石英最終質(zhì)量的關(guān)鍵,。
在提純的整個(gè)工藝流程中,，經(jīng)過(guò)焙燒水淬、磁選,、酸浸工序,，石英中雜質(zhì)元素Fe、Cr,、Ni,、Na、K,、Ca,、Mg、Cu等可以大幅度降低,。但Al在經(jīng)歷一系列提純工序之后,，去除效果有限，這主要是因?yàn)锳l3+進(jìn)入晶格替代Si4+,、而且離子半徑也比較接近,，不易提純。
類(lèi)似的還有Ti4+,、B3+,、P3+等雜質(zhì)元素�,？梢�(jiàn),，天然石英內(nèi)部的雜質(zhì)，特別是以類(lèi)質(zhì)同像狀態(tài)存在的雜質(zhì),，直接制約著高純石英產(chǎn)品生產(chǎn),，當(dāng)原礦Al、Ti,、Li,、B、P等雜質(zhì)元素含量較高,，就不易獲得高純石英,。
典型的例子有,，Norway地區(qū)石英巖，雖與藍(lán)晶石等多種礦物共伴生,，但其晶格雜質(zhì)少且?guī)缀醪缓黧w包裹體,，被認(rèn)為有可能加工為高純石英；而Sierrade Comechigones(Argentina)地區(qū)偉晶巖雖然SiO2含量很高,，但由于細(xì)粒石英中晶格雜質(zhì)較高,，很難被加工為高純石英。
綜上所述,，晶格雜質(zhì),，是制約高純石英質(zhì)量最關(guān)鍵性因素。晶格雜質(zhì)中的(Al3+,、Ti4+)－O鍵能較大,，Al、Ti取代石英晶格中的Si形成新的［AlO4］,、［TiO4］,，是石英中最難脫除的晶格雜質(zhì)元素。
晶格結(jié)構(gòu)雜質(zhì)是加工高純石英產(chǎn)品難以突破的最終瓶頸,。要選擇正確的高純石英原料和制定最佳的石英提純方案,，須明確石英中雜質(zhì)元素的賦存狀態(tài)。當(dāng)前研究雜質(zhì)元素賦存狀態(tài)的方法主要有：(1)X射線衍射數(shù)據(jù)擬合精修分析,；(2)LA-ICP-MS面掃描圖像分析,；(3)紅外吸收光譜分析；(4)電子探針及能譜分析,；(5)陰極發(fā)光特征分析,。
目前來(lái)看，氯化焙燒工藝是去除石英晶格雜質(zhì)比較有效的方法,。氯化焙燒是在低于石英熔點(diǎn)溫度下,，石英中的雜質(zhì)組分與氯化劑作用轉(zhuǎn)變?yōu)槁然锒鴵]發(fā)出來(lái)，石英在高溫氯化焙燒過(guò)程中存在晶型轉(zhuǎn)變,，使得石英晶格中的金屬離子如Al3+,、Ti4+等可能會(huì)遷移擴(kuò)散到石英表面，與HCl,、NH4Cl和Cl2等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)變成易揮發(fā)組分而實(shí)現(xiàn)與石英的分離,，同時(shí)也阻止了雜質(zhì)元素在冷卻過(guò)程再遷移擴(kuò)散至石英晶格中。
參考來(lái)源：
楊曉勇等,，高純石英的研究進(jìn)展及發(fā)展趨勢(shì),，中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
歐陽(yáng)靜等，石英礦物資源的提純及在戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用技術(shù)分析,，中南大學(xué)
馬超等,，高純石英原料礦物學(xué)特征與加工技術(shù)進(jìn)展,，中國(guó)地質(zhì)科學(xué)院鄭州礦產(chǎn)綜合利用研究所
王云月等，高純石英原料特征和礦床成因研究現(xiàn)狀綜述,，合肥工業(yè)大學(xué)
（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/平安）
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