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【原創(chuàng)】高純石英砂提純,,最難除掉的竟然是它,!


來源:中國粉體網(wǎng)   平安

[導(dǎo)讀]  它是制約高純石英最終質(zhì)量的關(guān)鍵,,是難以突破的最終瓶頸

中國粉體網(wǎng)訊  石英晶體在形成過程中,,一些元素會替代硅元素進(jìn)入石英晶體中,,形成了石英的結(jié)構(gòu)性雜質(zhì)。這些雜質(zhì)含量雖然很低,,但從石英中分離難度大,,是制約高純石英質(zhì)量最關(guān)鍵性因素。

在石英結(jié)構(gòu)性雜質(zhì)中,,Al雜質(zhì)元素含量一般最高,。由于Al是以Al3+替代Si4+的形式存在,引起了石英晶格內(nèi)部電荷不平衡,,當(dāng)石英中存在大量Al雜質(zhì)時,,Li、K,、Na等雜質(zhì)元素的含量會增加,。因此可以使用天然石英中Al的含量來判斷石英原料的質(zhì)量。



石英晶體中的晶格取代形式

在現(xiàn)有加工技術(shù)下,,石英原料中晶格雜質(zhì)幾乎不能被除去,。以晶格雜質(zhì)形式存在的Al元素含量雖然極低但除去難度極大,是制約高純石英最終質(zhì)量的關(guān)鍵,。

在提純的整個工藝流程中,,經(jīng)過焙燒水淬、磁選,、酸浸工序,,石英中雜質(zhì)元素Fe、Cr,、Ni,、Na、K,、Ca,、Mg、Cu等可以大幅度降低,。但Al在經(jīng)歷一系列提純工序之后,,去除效果有限,這主要是因?yàn)锳l3+進(jìn)入晶格替代Si4+,、而且離子半徑也比較接近,,不易提純,。

類似的還有Ti4+、B3+,、P3+等雜質(zhì)元素,。可見,,天然石英內(nèi)部的雜質(zhì),,特別是以類質(zhì)同像狀態(tài)存在的雜質(zhì),直接制約著高純石英產(chǎn)品生產(chǎn),,當(dāng)原礦Al,、Ti、Li,、B,、P等雜質(zhì)元素含量較高,就不易獲得高純石英,。

典型的例子有,,Norway地區(qū)石英巖,雖與藍(lán)晶石等多種礦物共伴生,,但其晶格雜質(zhì)少且?guī)缀醪缓黧w包裹體,,被認(rèn)為有可能加工為高純石英;而Sierrade Comechigones(Argentina)地區(qū)偉晶巖雖然SiO2含量很高,,但由于細(xì)粒石英中晶格雜質(zhì)較高,,很難被加工為高純石英。

綜上所述,,晶格雜質(zhì),,是制約高純石英質(zhì)量最關(guān)鍵性因素。晶格雜質(zhì)中的(Al3+,、Ti4+)-O鍵能較大,,Al、Ti取代石英晶格中的Si形成新的[AlO4],、[TiO4],,是石英中最難脫除的晶格雜質(zhì)元素。

晶格結(jié)構(gòu)雜質(zhì)是加工高純石英產(chǎn)品難以突破的最終瓶頸,。要選擇正確的高純石英原料和制定最佳的石英提純方案,,須明確石英中雜質(zhì)元素的賦存狀態(tài)。當(dāng)前研究雜質(zhì)元素賦存狀態(tài)的方法主要有:(1)X射線衍射數(shù)據(jù)擬合精修分析,;(2)LA-ICP-MS面掃描圖像分析,;(3)紅外吸收光譜分析;(4)電子探針及能譜分析,;(5)陰極發(fā)光特征分析,。

目前來看,,氯化焙燒工藝是去除石英晶格雜質(zhì)比較有效的方法。氯化焙燒是在低于石英熔點(diǎn)溫度下,,石英中的雜質(zhì)組分與氯化劑作用轉(zhuǎn)變?yōu)槁然锒鴵]發(fā)出來,,石英在高溫氯化焙燒過程中存在晶型轉(zhuǎn)變,使得石英晶格中的金屬離子如Al3+,、Ti4+等可能會遷移擴(kuò)散到石英表面,,與HCl、NH4Cl和Cl2等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)變成易揮發(fā)組分而實(shí)現(xiàn)與石英的分離,,同時也阻止了雜質(zhì)元素在冷卻過程再遷移擴(kuò)散至石英晶格中,。

參考來源:

楊曉勇等,,高純石英的研究進(jìn)展及發(fā)展趨勢,,中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)

歐陽靜等,石英礦物資源的提純及在戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用技術(shù)分析,,中南大學(xué)

馬超等,,高純石英原料礦物學(xué)特征與加工技術(shù)進(jìn)展,中國地質(zhì)科學(xué)院鄭州礦產(chǎn)綜合利用研究所

王云月等,,高純石英原料特征和礦床成因研究現(xiàn)狀綜述,,合肥工業(yè)大學(xué)

(中國粉體網(wǎng)編輯整理/平安)

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作者:平安

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