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蘇州納米所關(guān)于Ni(111)表面上六方氮化硼/石墨烯平面內(nèi)異質(zhì)結(jié)生長過程的動態(tài)觀測


來源:蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所

[導(dǎo)讀]  蘇州納米所關(guān)于Ni(111)表面上六方氮化硼/石墨烯平面內(nèi)異質(zhì)結(jié)生長過程的動態(tài)觀測

中國粉體網(wǎng)訊  面內(nèi)二維異質(zhì)結(jié)構(gòu)能夠整合不同二維材料的優(yōu)點,拓展其在光學(xué),、電學(xué)器件領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用,,然而外延異質(zhì)結(jié)構(gòu)的可控制備和規(guī)�,;a(chǎn),,尤其是微觀構(gòu)建機理仍有待進(jìn)一步研究。包信和教授和崔義研究員以Ni(111)表面上的化學(xué)氣相沉積方法直接外延生長六方氮化硼/石墨烯面內(nèi)異質(zhì)結(jié)構(gòu)為主線,,借助表面原位動態(tài)成像技術(shù),,系統(tǒng)的研究了六方氮化硼作為成核模板在構(gòu)建外延異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的作用。研究發(fā)現(xiàn),,當(dāng)六方氮化硼的生長順序先于石墨烯時,,石墨烯傾向于沿著外延六方氮化硼邊界生長并形成外延石墨烯,進(jìn)而拼接成單一取向的外延異質(zhì)結(jié)構(gòu),。當(dāng)石墨烯先成核時,,由于Ni(111)基底中的近表層碳物種削弱了石墨烯/Ni(111)界面相互作用,導(dǎo)致非外延石墨烯產(chǎn)生。以此為模板繼續(xù)生長六方氮化硼所構(gòu)建的異質(zhì)結(jié)構(gòu)也是非外延的,,將難以獲得高質(zhì)量的二維異質(zhì)結(jié)材料,。此外,該研究還揭示了六方氮化硼在Ni(111)表面上的生長動力學(xué)遵循表面擴散控制機理(Diffusion-limited Aggregation, DLA)而不是邊界反應(yīng)控制機理(Reaction-limited Aggregation),。這一研究加深了對面內(nèi)二維異質(zhì)結(jié)構(gòu)的外延特性調(diào)控以及二維材料在金屬表面生長動力學(xué)的理解,。此項研究結(jié)果以封面文章的形式發(fā)表在Nano Research期刊上(Dynamic observation of in-plane h-BN/graphene heterostructures growth on Ni(111). Nano Research (2020):1-6.) 


Nano-X簡介 


此項工作主要是在中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所的納米真空互聯(lián)實驗站(Nano-X)中完成的,Nano-X是目前世界上最大的集材料制備,、分析測試,、器件工藝于一體的真空互聯(lián)設(shè)施,目標(biāo)是建設(shè)成為國際領(lǐng)先的大科學(xué)用戶裝置,。該平臺具有完善的表界面分析工具,,且通過超高真空管道互聯(lián)互通,可實現(xiàn)樣品免受外界污染的條件下傳遞到各個分析表征設(shè)備:極端條件(ULT-STM, 4P-STM) ,;氣氛可控(NAP-STM, NAP-XPS, SNOM),;表界面譜學(xué)(XPS/UPS, TOF-SIMS);表界面成像(XPS-mapping,,SEM, PEEM,,LEEM, STM, AFM, SNOM,SIMS-mapping),;光譜分析(Raman, PL),。平臺可滿足以下檢測分析要求:(1)多尺度(從宏觀到介觀微觀)下的材料表面形貌、成分的表征,;(2)多維度(從二維到三維)下的元素分布及化學(xué)態(tài)的分析,;(3)近常壓環(huán)境下的氣/固界面動力學(xué)探測;(4)極限條件下的器件性能的測試,。


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/山川)


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