中國粉體網(wǎng)訊 近日,，由南京大學(xué)物理學(xué)院高力波教授團(tuán)隊領(lǐng)銜,，協(xié)同學(xué)院四個青年學(xué)者團(tuán)隊,，以“質(zhì)子輔助生長超平整石墨烯薄膜”為題,，在《自然》雜志上發(fā)表了將質(zhì)子輔助生長用于高質(zhì)量石墨烯制備的研究成果,。這項工作，不僅探索出了一種可控生長超平整石墨烯薄膜的方法,，更為重要的是,，該團(tuán)隊還發(fā)現(xiàn)了這種生長方法的內(nèi)在機(jī)制，即質(zhì)子輔助,，這種方法有望推廣到柔性電子學(xué),、高頻晶體管等更多重要的研究領(lǐng)域。
據(jù)悉,，該成果所涉及的化學(xué)氣相沉積方法（CVD）生長石墨烯,，是目前制備大面積、高品質(zhì)單晶晶�,；蛘弑∧さ淖钪饕椒�,。然而，由于石墨烯與基質(zhì)材料能夠產(chǎn)生強(qiáng)耦合作用,，使得石墨烯在生長過程中會形成褶皺,。這一現(xiàn)象嚴(yán)重限制了大尺度均一薄膜的制備，阻礙著二維材料的進(jìn)一步發(fā)展應(yīng)用,。
“CVD石墨烯中的褶皺是影響其物性的重要瓶頸,。”高力波告訴記者,，CVD石墨烯中的褶皺,，來源于石墨烯與生長基體的熱脹率差異，石墨烯生長于銅或者鉑等生長基體,，生長溫度多在600度以上,，生長完成后降至室溫便引起石墨烯的褶皺。褶皺的存在,，會影響石墨烯的優(yōu)良特性,，然而，究竟在多大程度上能夠影響其性能,，并沒有完整的對比數(shù)據(jù),�,！叭绾螐氐椎叵薨櫍⒅苽涑龀秸氖┍∧�,，逐漸成為其品質(zhì)跨越式提升的重點和難點,。”高力波說道,。
研究團(tuán)隊嘗試過多種消除褶皺的方法,，但效果都不盡如人意，僅剩下減弱石墨烯與生長基體之間耦合作用的唯一途徑,。在總結(jié)大量實驗的基礎(chǔ)上,，高力波團(tuán)隊發(fā)現(xiàn)，高比例的熱氫氣（H2）,，會在一定程度上,，弱化石墨烯與生長基體之間的耦合作用。同時,，研究人員通過理論模擬發(fā)現(xiàn),，處在石墨烯與銅基體之間的氫，在大濃度,、高溫的條件下,，可以起到減弱二者耦合的作用。在熱氫氣的組分中,，質(zhì)子和電子可以自由穿梭于石墨烯的蜂窩狀晶格,。因此，研究人員推測,，質(zhì)子在穿透石墨烯后,，有一定概率會再次與電子組合成氫。
“課題組通過氫氣,、氘氣（D2）,、氦氣（He）等離子體的作用效果對比，驗證了所設(shè)想的模型,�,！备吡Σń榻B，增加質(zhì)子密度,，成為減弱二者耦合作用的關(guān)鍵途徑,。有鑒于此，研究團(tuán)隊采用氫氣等離子體處理褶皺化的石墨烯薄膜,，并輔以高溫,，逐步減弱并消除石墨烯褶皺。如果在生長石墨烯的同時，引入氫氣等離子體,，則生長出來的石墨烯完全無褶皺,。
為了全方位表征無褶皺化的石墨烯薄膜，通過多種物性測量,，包括掃描隧道顯微鏡（STM）觀測摩爾條紋和掃描隧道譜（STS）,、角分辨光電子能譜（ARPES）直觀觀測石墨烯與銅基體的耦合作用變化、變溫拉曼光譜表征熱漲率差異等,，都表明了這種超平整的石墨烯薄膜,，處于與生長基體脫耦合、無摻雜的狀態(tài),。由于石墨烯薄膜的超平整特性,，因此在清除石墨烯表面其他物質(zhì)，尤其是石墨烯轉(zhuǎn)移過程中產(chǎn)生的轉(zhuǎn)移介質(zhì)PMMA殘留時,，表現(xiàn)出極易清潔的優(yōu)點。
此外,，為了凸顯超平整石墨烯薄膜的優(yōu)點,，即大尺寸和高品質(zhì)，研究人員還進(jìn)行了不同線寬下的石墨烯量子霍爾效應(yīng)的測量,，線寬分別為2μm,、20μm、100μm,、500μm,。此前，有礙于大尺寸石墨烯樣品的均勻性,，石墨烯量子霍爾效應(yīng)出現(xiàn)的最大線寬為50μm,，而生長出來的超平整石墨烯薄膜，量子霍爾效應(yīng)出現(xiàn)的閾值條件,，和1μm線寬時測量的本征石墨烯幾乎相當(dāng),。更重要的是，對于不同線寬測量,，他們的平臺出現(xiàn)閾值幾乎不變,。“這表明只有消除褶皺,，才能在最大程度上實現(xiàn)大尺寸石墨烯的均質(zhì)化,、高品質(zhì)�,！备吡Σū硎�,，質(zhì)子輔助的CVD方法不僅能夠盡可能維持石墨烯的固有性質(zhì)，還將對今后制備其他種類的納米材料具有普適性。
（中國粉體網(wǎng)編輯整理/墨玉）
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