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研磨設(shè)備生產(chǎn)商——深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司入駐粉享通


來源:中國粉體網(wǎng)   粉享通

[導(dǎo)讀]  深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司創(chuàng)建于1993年,,二十多年一直專注于超細(xì)研磨及分散技術(shù)的研究和研磨設(shè)備的生產(chǎn),。

深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司

---先進(jìn)納米材料制備專家

---高遠(yuǎn)至太空 超細(xì)于納米


深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司創(chuàng)建于1993年,二十多年一直專注于超細(xì)研磨及分散技術(shù)的研究和研磨設(shè)備的生產(chǎn),,已獲得7項(xiàng)砂磨技術(shù)方面的發(fā)明專利授權(quán),現(xiàn)為國家高新技術(shù)企業(yè),,深圳市高新技術(shù)企業(yè)。公司與華南理工大學(xué)達(dá)成戰(zhàn)略合作關(guān)系,,是華南理工大學(xué)材料學(xué)院產(chǎn)學(xué)研基地。


公司立足于客戶,,奉行全心全意為客戶服務(wù)為宗旨,不斷研發(fā)改進(jìn),,朝“更高更精更尖”方向不斷奮進(jìn),。公司在總結(jié)了臥式機(jī)一直存在且難以解決的四大難題,,也是客戶使用的四大痛點(diǎn)的基礎(chǔ)上,,獨(dú)創(chuàng)性的研發(fā)出具有獨(dú)立知識產(chǎn)權(quán)的無軸封無篩網(wǎng)立式砂磨機(jī),成功解決了臥式機(jī)的四大難題,。


臥式機(jī)四大難題:

(1)軸封泄漏及損壞;

(2)篩網(wǎng)堵塞 ,;

(3)難以用超細(xì)珠研磨,;

(4)產(chǎn)品顆粒不均勻 。


現(xiàn)公司主要推出兩個(gè)系列的產(chǎn)品:


1,、W系列實(shí)驗(yàn)室砂磨機(jī)


結(jié)構(gòu)特點(diǎn):

(1)研磨細(xì)度:微米級,、亞微米、納米級,;

(2)研磨介質(zhì):Φ0.05-0.8mm;

(3)磨腔構(gòu)件:全陶瓷/合金鋼,;

(4)轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu):渦輪銷釘;

(5)無軸封結(jié)構(gòu),,無泄漏困擾;  

(6)無泵無管道,,減少物料浪費(fèi)及污染;

(7)清洗方便,,可快速更換配方重新進(jìn)行研磨實(shí)驗(yàn);

(8)特別適用昂貴材料及小量材料的研磨試驗(yàn),。



2,、SP系列無軸封無篩網(wǎng)立式砂磨機(jī)


優(yōu)點(diǎn):

(1)無軸封:無泄漏,、損壞、維修的困擾,; 

(2)無篩網(wǎng):無堵塞,、無需清理篩網(wǎng)及篩珠; 

(3)超細(xì)研磨介質(zhì):Φ0.05-2.0mm,,可實(shí)現(xiàn)納米級超細(xì)研磨,; 

(4)分級分離分級研磨功能:離心分離的作用,細(xì)顆粒物料被排出磨腔,,研磨次數(shù)少,可防止過磨,; 


大顆粒物料不能排出,,在磨腔內(nèi)多磨幾次甚至幾十次,,很快被磨細(xì),;最終產(chǎn)品顆粒非常均勻,分布很窄,。 


公司產(chǎn)品現(xiàn)已成熟并廣泛應(yīng)用于先進(jìn)陶瓷材料(氮化硅、氧化鋯,、碳化硼、氮化硼,、氧化鋁等),、新型碳材料(碳納米管,、碳纖維、石墨,、碳復(fù)合材料和石墨烯等)、新能源材料(磷酸鐵鋰,、鈷酸鋰、晶體硅等)及各種納米涂料,、油墨,、顏料,、黏土等諸多領(lǐng)域,,是名副其實(shí)的先進(jìn)納米材料制備專家。


部分應(yīng)用實(shí)例:


氮化硅(Si3N4



原樣D50≤0.8μm  D90≤2.1μm

磨后D50≤100nm D90≤150nm



氧化硅(SiO2)



原樣D50≤3.87μm  D90≤11.54μm

磨后 D50≤60nm D90≤70nm



氧化鋯(ZrO2



原樣 D50≤1μm  D90≤2μm

磨后 D50≤39nm  D90≤45nm



剛玉(α- Al2O3)




原樣 D50≤1.2μm  D90≤2.1μm

磨后 D50≤100nm  D90≤200nm



金剛石(C)



原樣 D50≤1.1μm  D90≤1.8μm

磨后 D50≤120nm  D90≤200nm



氟化石墨((FC)n)



原樣 D50≤50μm  D90≤90μm

磨后 D50≤600nm  D90≤900nm



磷酸鐵鋰(LiFePO4



原樣D50≤4.06μm D90≤7.5μm

磨后 D50≤50nm D90≤60nm



硅(Si)



原樣D50≤10μm D90≤18μm

磨后 D50≤150nm D90≤200nm



水性噴墨



原樣D50≤18μm D90≤31μm

磨后 D50≤40nm D90≤50nm



三氧化鎢(WO3




原樣 D50≤6.9μm  D90≤15.3μm

磨后 D50≤40nm  D90≤70nm

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