中國粉體網訊 共沉淀反應制備三元前驅體的工藝中,，鹽溶液和堿溶液的配制工序和后期洗滌工序都需要用到大量純水,，所以純水成為雜質的主要帶入源之一，必須嚴格控制純水水質以保證產品質量,。
一,、水中的雜質
水中的雜質按照其化學結構等可分為無機物、有機物和水生物,；按照尺寸大小可分成懸浮物,、膠體和溶解物3類,。
1,、懸浮物和膠體雜質
懸浮物尺寸較大，易于在水中下沉或上浮,。易于下沉的一般是大顆粒泥砂及礦物廢渣等,；能夠上浮的一般是體積較大而密度小的某些有機物。膠體顆粒尺寸很小,，在水中長期靜置也難以下沉,。水中的膠體雜質通常有黏土、某些細菌及病毒,、腐殖質及蛋白質等,。有機高分子物質通常也屬于膠體一類。
工業(yè)廢水排入天然水體中,，會引入各種各樣的膠質或有機高分子物質,。天然水中的膠體一般帶負電荷，有時也含有少量帶正電荷的金屬氫氧化物膠體,。懸浮物和膠體是水處理的主要去處對象,。粒徑較大的懸浮物如泥砂等，去除較易，通常在水中可很快自行下沉,。而粒徑較小的懸浮物和膠體雜質,，需投入混凝劑方可去除。
2,、溶解雜質
溶解雜質包括有機物和無機物兩類,。無機溶解物是指水中所含的無機低分子和離子。它們與水所構成的均相體系,，外觀透明,，屬于真溶液。但有的無機溶解物可使水產生色,、臭,、味。無機溶解雜質是工業(yè)用水的主要去除對象,。有機溶解物主要來源于水源污染,，也有天然存在的，如腐殖質等,。在飲用水處理中,，有機溶解物是重點去除對象之一。受污染水中溶解雜質多種多樣,。這里重點介紹天然水體中原來含有的主要溶解雜質,。
（1）溶解氣體
天然水中的溶解氣體主要是氧、氮和二氧化碳,，有時也含有少量硫化氫,。天然水中氧的主要來源是空氣中氧的溶解，部分來自藻類等水生植物的光合作用,。地表水中溶解氧的量與水溫,、氣壓及水中有機物含量等有關。不受工業(yè)廢水或生活污水污染的天然水體,，溶解氧含量一般為5～10mg·L–1,，最高含量不超過14mg·L–1。當水體受到廢水污染時,，溶解氧含量降低,。嚴重污染的水體，溶解氧甚至為零,。
天然水中的氮主要來自空氣中氮的溶解,，部分是有機物分解及含氮化合物的細菌還原等生化過程的產物。
（2）離子
天然水中所含主要陽離子有Ca2+,、Mg2+,、Na+；主要陰離子有HCO3-、SO42-,、Cl-,。此外還含有少量K+、Fe2+,、Mn2+,、Cu2+等陽離子及HSiO3-、CO32-,、NO3-等陰離子,。這些離子主要來源于礦物質的溶解，也有部分可能來源于水中有機物的分解,。水中NO3-一般主要來自有機物的分解,，但也有可能由鹽類溶解產生。天然水體中有時某些重金屬含量偏高,，如砷,、鉻、銅,、鉛,、汞等，這是由于水源附近可能有天然重金屬礦藏,。
二,、前驅體純水水質要求
水中的溶解氧需要去除以防止前驅體反應過程中Ni2+、Co2+,、Mn2+氧化,，一般采用加熱或者用惰性氣體鼓泡的方法去除。水中的Ca2+,、Mg2+進入反應體系后,，就會和體系中的OH-生成Ca（OH）2,、Mg（OH）2等微溶于水的雜質,，Cl-則會腐蝕不銹鋼設備。若水中還含有Fe2+,、Cu2+等離子,，在堿性體系下進入前驅體中后，會對前驅體品質產生很大影響,。
目前我國電子工業(yè)部把電子級水質技術分為五個行業(yè)標準,，分別為18MΩ·cm、15MΩ·cm,、10MΩ·cm,、2MΩ·cm、0.5MΩ·cm，以區(qū)分不同水質,。
三,、純水制備
常見的工業(yè)純水制備流程圖如圖所示。
常見工業(yè)純水制備流程圖
從圖中可以看出,，純水制備可分為原水預處理,、反滲透除鹽、混床離子交換三部分,。
（1）原水預處理
原水的預處理系統包括石英砂過濾器和活性炭過濾器兩部分,。自來水首先通過石英砂濾床去除水中的懸浮物、凝聚后的片狀物以及沉淀法不能去除的黏結膠體物質,，降低原水濁度,。然后再通過活性炭過濾器濾除去水中有機雜質和水中分子態(tài)膠體微細顆粒雜質，并吸附水中的余氯,。
（2）反滲透除鹽
反滲透即ReverseOsmosis,，簡稱RO。反滲透膜的孔徑為0.0001～0.001μm,，可以截留水中的全部懸浮物質,、大部分溶解性鹽和大分子物質。該系統的主要作用是以壓力為推動力,，進行膜分離脫鹽,，同時可除去水中溶解性有機物、微生物,、細菌,、熱原、病毒等,。影響反滲透效率的因素有進水壓力,、水溫、水的pH值,、水中的鹽濃度,。
（3）混床離子交換
混床的作用是將反滲透產水中留存的離子進一步去除。原水經過反滲透系統后,，已將水中絕大部分的鹽類離子去除,，但是水質還不能達到系統產水需要的水質要求，還需要經過混床進行進一步去除后才能達到要求,。
大多數自來水經過上述幾個工序處理后,，都能達到生產三元材料前驅體的水質要求，但是有少數地區(qū)的自來水水質較差,，需要根據具體情況增加處理工序,。
