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日本研制成高純度碳化硅晶體


來源:

標簽碳化硅
日本科學家在26日出版的《自然》雜志上報告說,,他們開發(fā)出一種純度極高的碳化硅晶體,以該晶體制成的半導體將大大提高電子設備的效率,。如果這項技術能夠推廣到工業(yè)生產(chǎn),,將使電子業(yè)發(fā)生革命性的進步。
  在碳化硅多種結(jié)晶類型中,,立方體單結(jié)晶的電性能最佳,。與硅相比,碳化硅的導電率高,、抗輻射性好,,并且可以在超高溫下發(fā)揮作用。如果用碳化硅制成半導體,可大大減少電子設備的內(nèi)部消耗,,提高電子設備的效率,。

  多年以來,科學家一直希望用碳化硅代替硅來制作半導體,。然而,,高品質(zhì)結(jié)晶不易培育。普通技術培育的晶體生長到幾個厘米后就會出現(xiàn)明顯的溝道,,造成晶體短路,,因此無法使用在電子設備中。

  日本豐田中央研發(fā)實驗室的科學家在《自然》雜志上報告說,,他們采取了一種特殊的方式分階段培育碳化硅晶體,。在每一階段,研究人員將晶體的生長控制在最干凈的一個表面上,。熱的碳化硅蒸氣逐漸沉積,,當晶體的邊擴展到7厘米時,其上的溝道就逐漸消失了,。研究人員報告說,,這種方法培育出的晶體的溝道數(shù)量只有傳統(tǒng)方式培育出的晶體的溝道數(shù)量的1%。

  英國電子專家在接受《自然》雜志采訪時說,,碳化硅半導體的發(fā)展前景廣闊,。使用硅半導體的電子設備,有50%的電能內(nèi)耗掉了,。如果采用碳化硅,,可使電能利用效率提高到70%。
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