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納米制程難度加大 半導(dǎo)體產(chǎn)品換代放緩


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標(biāo)簽納米
據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,,因應(yīng)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)入納米技術(shù)時(shí)代,2003年國際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖(ITRS)日前表示,,半導(dǎo)體制程將從2年更新一代的周期延長(zhǎng)為3年更新一代,;同時(shí),由臺(tái)積電主導(dǎo)的65納米以下光罩制作“浸潤(rùn)式微影技術(shù)”(Immersion Lithography),,也與無線通訊IC制程一同增列于2003年ITRS藍(lán)圖中,,供全球半導(dǎo)體業(yè)遵循。

  由歐盟,、日本,、韓國,、美國與臺(tái)灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)所組成的ITRS,,每年開會(huì)提出技術(shù)藍(lán)圖修正。代表成員之一的旺宏資深副總經(jīng)理暨技術(shù)總監(jiān)盧志遠(yuǎn)表示,,隨著納米技術(shù)難度提高,,業(yè)者投資腳步放慢,為避免全球多數(shù)業(yè)者跟不上技術(shù)時(shí)程,,導(dǎo)致被淘汰的厄運(yùn),,2003年技術(shù)藍(lán)圖確定改為每2年更新一代延長(zhǎng)為3年。

??臺(tái)積電邏輯技術(shù)發(fā)展處協(xié)理孫元成介紹該公司大力推動(dòng)的“浸潤(rùn)式微影技術(shù)”是在193納米波長(zhǎng)曝光機(jī)的基礎(chǔ)上,,于光源與晶圓之間加入水,,以使波長(zhǎng)縮短到132納米的微影技術(shù),比起目前一般干式微影設(shè)備,,此技術(shù)可支持65納米,、45納米,,甚至到32納米制程,可說是微影技術(shù)的一大突破,。

??無線通訊IC越居通訊技術(shù)主流,,硅半導(dǎo)體業(yè)目前已可量產(chǎn)頻率高達(dá)5GHZ的射頻IC,硅晶圓與硅鍺晶圓(SiGe)技術(shù)兼容性高,,技術(shù)可望推升到100GHZ的高水平,,這次ITRS技術(shù)藍(lán)圖也首次將無線通訊IC獨(dú)立增列于其中,。
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