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納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,，是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無機(jī)產(chǎn)品，使其在陶瓷,、化工,、電子、光學(xué),、生物,、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途,。

        
納米級粉末的分散,，普遍會出現(xiàn)物料團(tuán)聚的現(xiàn)象，導(dǎo)致粒徑變大,。IKN研磨式分散機(jī),，將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合，先研磨后分散機(jī),，解決團(tuán)聚問題,！

CMD2000系列研磨式分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G,，4M，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
                

咨詢熱線：13795214885 賈清清  微信同手機(jī)號  公司有樣機(jī)可供客戶購前實(shí)驗(yàn),，歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)！

              
CMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點(diǎn)：

①   線速度很高,，剪切間隙非常小,，當(dāng)物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列設(shè)備選型表

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù),。

2.處理量取決于物料的粘度,，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫,，高壓,，易燃易爆，腐蝕性等工況,，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,，定制而不符,，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
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