參考價(jià)格
面議型號(hào)
Nanotrac wave II品牌
麥奇克/Microtrac產(chǎn)地
美國(guó)樣本
暫無(wú)測(cè)量范圍:
0.3nm-10μm誤差率:
≤1%分辨率:
重現(xiàn)性:
誤差≤1%儀器原理:
動(dòng)態(tài)光散射分散方式:
背散射測(cè)量時(shí)間:
30-120秒看了納米粒度及zeta電位儀 Nanotrac wave II的用戶又看了
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納米粒度測(cè)量——先進(jìn)的動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù)
Zeta電位測(cè)量:Microtrac MRB以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨(dú)到見(jiàn)解,經(jīng)過(guò)多年的市場(chǎng)調(diào)研和潛心研究,,開(kāi)發(fā)出新一代NANOTRAC WAVE II微電場(chǎng)分析技術(shù),,融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測(cè)量于一體,無(wú)需傳統(tǒng)的比色皿,,一次進(jìn)樣即可得到準(zhǔn)確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù),。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比,NANOTRAC WAVE II采用先進(jìn)的“Y”型光纖探針光路設(shè)計(jì),,配置膜電極產(chǎn)生微電場(chǎng),,操作簡(jiǎn)單,測(cè)量迅速,,無(wú)需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層,,無(wú)需外加大功率電場(chǎng),無(wú)需更換分別用于測(cè)量粒度和Zeta電位的樣品池,,完全消除由于空間位阻(不同光學(xué)元器件間的傳輸損失,,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,,分散介質(zhì)的影響,,顆粒間多重散射等)帶來(lái)的光學(xué)信號(hào)的損失,結(jié)果準(zhǔn)確可靠,,重現(xiàn)性好,。
測(cè)量原理:
粒度測(cè)量:動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理
Zeta電位測(cè)量:膜電極設(shè)計(jì)與“Y”型探頭形成微電場(chǎng)測(cè)量電泳遷移率
分子量測(cè)量:水力直徑或德拜曲線
光學(xué)系統(tǒng):
3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器,通過(guò)梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品,,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號(hào),,無(wú)需校正光路
軟件系統(tǒng):
先進(jìn)的FLEX軟件提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,,數(shù)據(jù)輸出/輸入,,個(gè)性化輸出報(bào)告,及各種文字處理功能,,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),,Microsoft Access格式(OLE)等。體積,,數(shù)量,,面積及光強(qiáng)分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,,包括口令保護(hù),電子簽名和指定授權(quán)等,。
外部環(huán)境:
電源要求:90-240VAC,,5A,,50/60Hz
環(huán)境要求:溫度,10-35°C
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn):符合ISO13321,,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008
主要特點(diǎn):
? 采用先進(jìn)的動(dòng)態(tài)光散射技術(shù),,引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法
? “Y”型光纖光路系統(tǒng),通過(guò)藍(lán)寶石測(cè)量窗口,,直接測(cè)量懸浮體系中的顆粒粒度分布,,在加載電流的情況下,與膜電極對(duì)應(yīng)產(chǎn)生微電場(chǎng),,測(cè)量同一體系的Zeta電位,, 避免樣品交叉污染與濃度變化。
? 異相多譜勒頻移技術(shù),,較之傳統(tǒng)的方法,,獲得光信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí),提高分析結(jié)果的可靠性,。
? 可控參比方法(CRM),,能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度,。
? 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計(jì),,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測(cè)試的準(zhǔn)確性,。
? 快速傅利葉變換算法(FFT,,F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測(cè)系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時(shí)間,。
? 膜電極設(shè)計(jì),,避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準(zhǔn)確測(cè)量顆粒電泳速度,。
? 無(wú)需比色皿,,毛細(xì)管電泳池或外加電極池,僅需點(diǎn)擊Zeta電位操作鍵,,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果
? 消除多種空間位阻對(duì)散射光信號(hào)的干擾,諸如光路中不同光學(xué)元器件間傳輸?shù)膿p失,,樣品池位置不同帶來(lái)的誤差,,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,,多重散射的衰減等,,提高靈敏度。
粒度分析范圍 | 0.3nm-10μm |
重現(xiàn)性 | 誤差≤1% |
濃度范圍 | 100ppb-40%w/v |
檢測(cè)角度 | 180° |
分析時(shí)間 | 30-120秒 |
準(zhǔn)確性 | 全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子 |
測(cè)量精度 | 無(wú)需預(yù)選,,依據(jù)實(shí)際測(cè)量結(jié)果,,自動(dòng)生成單峰/多峰分布結(jié)果 |
理論設(shè)計(jì)溫度 | 0-90℃,,可以進(jìn)行程序升溫或降溫 |
兼容性 | 水相和有機(jī)相 |
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
Improve protein aggregate characterization in parenteral drug formulations優(yōu)化注射制劑中的蛋白質(zhì)聚集物表征 - 顆粒表征是許多
2019-04-24
摘要:以石斑魚為原料,,使用Biochrom30+全自動(dòng)氨基酸自動(dòng)分析儀對(duì)其肌肉的氨基酸組成進(jìn)行分析,。結(jié)果表明石斑魚肌肉中氨基酸總量的質(zhì)量百分比為17753.114mg/100g,必需氨基酸(不含色氨酸
2019-09-16
顆粒狀材料和精細(xì)粉體在工業(yè)上有著廣泛的應(yīng)用,,為了控制和優(yōu)化加工方法,,必須對(duì)這些材料進(jìn)行精確表征。表征方法既與顆粒的性質(zhì)(粒度,、形態(tài),、化學(xué)成分等)有關(guān),也與粉體的行為(流動(dòng)性,、密度,、共混穩(wěn)定性、靜電性能
2019-11-11
單抗SBP是目前國(guó)內(nèi)生物制品中申報(bào)臨床試驗(yàn)最多的品種,,藥學(xué)研究證實(shí)與已上市RBP具有“質(zhì)量相似性”是其作為SBP開(kāi)發(fā)的先決條件,,如果 SBP的產(chǎn)品質(zhì)量明顯區(qū)別于原研產(chǎn)品,可以作為藥學(xué)研究存在重大缺陷,,
2020-03-12
一年一度的“FFC中國(guó)功能性食品大會(huì)”匯聚業(yè)內(nèi)頂級(jí)專家、龍頭企業(yè)等千余位功能食品界代表,,共議科技創(chuàng)新,、產(chǎn)品創(chuàng)新,打造功能食品產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,,解決功能食品發(fā)展全過(guò)程問(wèn)題,。具有我國(guó)功能食品產(chǎn)業(yè)發(fā)展風(fēng)向標(biāo)、信息
引 言X4 POSEIDON古希臘神話中,,波塞冬手握三叉戟,劈開(kāi)驚濤駭浪,,統(tǒng)御無(wú)垠海洋,;如今,布魯克X4 Poseidon模塊化三維X射線顯微成像系統(tǒng)化身“微觀海神”,,憑借超高分辨率,、無(wú)損探測(cè)、自由進(jìn)
作為中國(guó)化妝品行業(yè)的年度技術(shù)盛會(huì),,內(nèi)容涉及政策法規(guī),、市場(chǎng)趨勢(shì)、皮膚臨床醫(yī)學(xué),、研發(fā)配方,、醫(yī)美護(hù)膚,、功效評(píng)價(jià)與檢測(cè)、原料創(chuàng)新技術(shù)及趨勢(shì),、彩妝創(chuàng)新,、高校基礎(chǔ)研究及成果轉(zhuǎn)化及相關(guān)延伸,、跨界領(lǐng)域技術(shù)等,。&nbs
納米氣泡是液體環(huán)境中完全由氣體組成的一類特殊的納米顆粒。目前的研究已證實(shí),,納米氣泡在環(huán)境保護(hù),、農(nóng)業(yè)種植養(yǎng)殖、工業(yè)清洗,、醫(yī)美等領(lǐng)域有非常大的應(yīng)用潛力,,相關(guān)行業(yè)的研究熱度也很高??焖?、準(zhǔn)確、全面的納米氣泡
半導(dǎo)體行業(yè)中硅和其他晶圓的接觸角測(cè)量用于評(píng)估清潔度,、表面處理均勻性和光刻膠粘附性。晶圓的直徑通常在4英寸至12英寸之間,。理想情況下,,晶圓上的接觸角測(cè)量可以通過(guò)自動(dòng)定位整個(gè)晶圓來(lái)完成,而無(wú)需用戶干預(yù),。對(duì)
作者:Susanna Laurén,Biolin Scientific水層破散測(cè)試是在工業(yè)環(huán)境中檢查表面清潔度的常用方法,。測(cè)試的主要目的是評(píng)估表面是否為下一個(gè)工藝步驟做好了準(zhǔn)備,,最典型的是涂層應(yīng)用。然