參考價(jià)格
1-5萬(wàn)元型號(hào)
(ZrO 2-95%)品牌
日本itoh伊藤產(chǎn)地
日本樣本
暫無(wú)莫氏硬度：
9粒度/直徑（μm）：
從微米級(jí)到毫米級(jí)密度：
3.9～4.1g/cm3含量：
95材質(zhì)：
氧化鋯形狀：
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高密度：密度達(dá)到6.0g/cm3，在研磨過(guò)程中能提供更大的沖擊能量,，尤其適用于高粘度物料的研磨,。
高硬度：維氏硬度超過(guò)1200kg/mm2，莫氏硬度達(dá)到9級(jí),，具有優(yōu)異的耐磨性能,，磨損率低。
低磨耗：磨耗率極低,，僅為0.01%以下,，在高速研磨工況下，磨損率較鋼珠降低40%,。
抗沖擊性：壓碎強(qiáng)度超過(guò)150kgf,，能夠承受砂磨機(jī)高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的機(jī)械沖擊。
熱穩(wěn)定性：耐溫可達(dá)600℃,，熱膨脹系數(shù)接近金屬，在高溫環(huán)境下仍能保持強(qiáng)度與硬度不變,。
表面特性：表面光滑,，具有珍珠光澤，降低了物料的粘附,，即使磨損后仍能保持均勻的磨耗形態(tài),。
高純度：ZrO?含量≥95%，Y?O?含量為4.5-5.5%,，化學(xué)穩(wěn)定性高,，不與大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),。
無(wú)污染：在研磨過(guò)程中不會(huì)對(duì)物料造成污染，特別適用于對(duì)純度要求高的物料研磨,。
生產(chǎn)工藝：采用干粉等靜壓成型技術(shù),，通過(guò)150MPa以上壓力使粉體均勻致密化，再經(jīng)1550℃以上高溫?zé)Y(jié)形成微晶結(jié)構(gòu),，確保在高速運(yùn)轉(zhuǎn)工況下具有良好的抗碎裂性能,。
表面處理：采用精密拋光工藝，使球體圓度誤差小于0.05mm,，確保設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性,。
精密加工：在航空航天領(lǐng)域，用于鈦合金,、陶瓷基復(fù)合材料的超細(xì)研磨,。
化工生產(chǎn)：用于鈦白粉分散、高分子材料濕法研磨,。
電子制造：用于光連接器部件的拋光與分散,。
特種材料：用于珠寶拋光、生物技術(shù)中DNA/RNA提取的細(xì)胞破碎,。
研磨介質(zhì)：廣泛應(yīng)用于砂磨機(jī),、球磨機(jī)等設(shè)備中，在油漆涂料行業(yè),，其研磨效率較傳統(tǒng)介質(zhì)提升30%,，并能減少因介質(zhì)碎裂導(dǎo)致的物料污染。
綜上所述,，日本伊藤（Itoh）生產(chǎn)的95%氧化鋯球（ZrO?）以其高密度,、高硬度、低磨耗,、抗沖擊性,、熱穩(wěn)定性以及優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和無(wú)污染特性，廣泛應(yīng)用于多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域,，是一種理想的研磨介質(zhì)和高性能材料,。
物理性能
高密度：密度達(dá)到6.0g/cm3，在研磨過(guò)程中能提供更大的沖擊能量,，尤其適用于高粘度物料的研磨,。
高硬度：維氏硬度超過(guò)1200kg/mm2，莫氏硬度達(dá)到9級(jí),，具有優(yōu)異的耐磨性能,，磨損率低。
低磨耗：磨耗率極低，僅為0.01%以下,，在高速研磨工況下,，磨損率較鋼珠降低40%。
抗沖擊性：壓碎強(qiáng)度超過(guò)150kgf,，能夠承受砂磨機(jī)高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的機(jī)械沖擊,。
熱穩(wěn)定性：耐溫可達(dá)600℃，熱膨脹系數(shù)接近金屬,，在高溫環(huán)境下仍能保持強(qiáng)度與硬度不變,。
表面特性：表面光滑，具有珍珠光澤,，降低了物料的粘附,，即使磨損后仍能保持均勻的磨耗形態(tài)。
化學(xué)性能
高純度：ZrO?含量≥95%,，Y?O?含量為4.5-5.5%,，化學(xué)穩(wěn)定性高，不與大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),。
無(wú)污染：在研磨過(guò)程中不會(huì)對(duì)物料造成污染,，特別適用于對(duì)純度要求高的物料研磨。
工藝性能
生產(chǎn)工藝：采用干粉等靜壓成型技術(shù),，通過(guò)150MPa以上壓力使粉體均勻致密化,，再經(jīng)1550℃以上高溫?zé)Y(jié)形成微晶結(jié)構(gòu)，確保在高速運(yùn)轉(zhuǎn)工況下具有良好的抗碎裂性能,。
表面處理：采用精密拋光工藝,，使球體圓度誤差小于0.05mm，確保設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性,。
應(yīng)用領(lǐng)域
精密加工：在航空航天領(lǐng)域,，用于鈦合金、陶瓷基復(fù)合材料的超細(xì)研磨,。
化工生產(chǎn)：用于鈦白粉分散,、高分子材料濕法研磨。
電子制造：用于光連接器部件的拋光與分散,。
特種材料：用于珠寶拋光,、生物技術(shù)中DNA/RNA提取的細(xì)胞破碎。
研磨介質(zhì)：廣泛應(yīng)用于砂磨機(jī),、球磨機(jī)等設(shè)備中,，在油漆涂料行業(yè)，其研磨效率較傳統(tǒng)介質(zhì)提升30%,，并能減少因介質(zhì)碎裂導(dǎo)致的物料污染,。
綜上所述,，日本伊藤（Itoh）生產(chǎn)的95%氧化鋯球（ZrO?）以其高密度,、高硬度,、低磨耗、抗沖擊性,、熱穩(wěn)定性以及優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和無(wú)污染特性,，廣泛應(yīng)用于多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域，是一種理想的研磨介質(zhì)和高性能材料,。
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