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AW-QP系列單片式等離子去膠機品牌
奧威贏產(chǎn)地
江蘇樣本
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設(shè)備用途
高性能的單片去膠（打膠）,，主要應(yīng)用于 4、6,、8 英寸直徑的半導(dǎo)體單片去膠,、等離子表面清洗,、掃底膜工藝等。
主要應(yīng)用領(lǐng)域包括：芯片制造,、MEMS,、太陽能電池、化合物產(chǎn)業(yè)（GaAs,、GaN,、GaP、InP,、SiC 等）,、光電產(chǎn)業(yè)等，主要應(yīng)用工藝包括：去膠,、可控光刻膠去除（刻蝕前掃底膜）,、GaAs、InP 晶片去膠及掃底膜等,。
| 產(chǎn)品型號 | AW-QP600 |
| 外形尺寸(不含報警燈塔) | L1200×W1500×H1750(mm) |
| 反應(yīng)倉材質(zhì) | 石英+6061鋁合金 |
| 等離子體發(fā)生器 | 頻率13.56MHz,功率0-600W可調(diào),，自動阻抗匹配 |
| 去膠圓片尺寸 | 4寸、6寸,、8寸 |
| 去膠速率 | 300-1500A/min |
| 溫度控制 | 30～160℃,、±3 ℃ |
| 產(chǎn)能及碎片率 | 單腔45～60片/小時，≤1/1000 |
| 真空系統(tǒng) | 油泵/干泵可選,，進(jìn)口氣動角閥,、充氣閥，高精度真空計 |
| 氣路系統(tǒng) | MFC質(zhì)量流量計控制(標(biāo)準(zhǔn)配置2路):5SLMO?和1SLM N |
| 控制系統(tǒng) | 觸摸式工控機+PLC控制 |
| 備注 | 可按客戶需求彈性設(shè)計/多腔設(shè)計 |
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