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面議型號
AW-QP系列單片式等離子去膠機(jī)品牌
奧威贏產(chǎn)地
江蘇樣本
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設(shè)備用途
高性能的單片去膠(打膠),,主要應(yīng)用于 4,、6、8 英寸直徑的半導(dǎo)體單片去膠,、等離子表面清洗,、掃底膜工藝等。
主要應(yīng)用領(lǐng)域包括:芯片制造,、MEMS,、太陽能電池、化合物產(chǎn)業(yè)(GaAs,、GaN,、GaP、InP,、SiC 等),、光電產(chǎn)業(yè)等,主要應(yīng)用工藝包括:去膠,、可控光刻膠去除(刻蝕前掃底膜),、GaAs、InP 晶片去膠及掃底膜等,。
產(chǎn)品型號 | AW-QP600 |
外形尺寸(不含報(bào)警燈塔) | L1200×W1500×H1750(mm) |
反應(yīng)倉材質(zhì) | 石英+6061鋁合金 |
等離子體發(fā)生器 | 頻率13.56MHz,功率0-600W可調(diào),,自動(dòng)阻抗匹配 |
去膠圓片尺寸 | 4寸、6寸,、8寸 |
去膠速率 | 300-1500A/min |
溫度控制 | 30~160℃,、±3 ℃ |
產(chǎn)能及碎片率 | 單腔45~60片/小時(shí),≤1/1000 |
真空系統(tǒng) | 油泵/干泵可選,,進(jìn)口氣動(dòng)角閥,、充氣閥,高精度真空計(jì) |
氣路系統(tǒng) | MFC質(zhì)量流量計(jì)控制(標(biāo)準(zhǔn)配置2路):5SLMO?和1SLM N |
控制系統(tǒng) | 觸摸式工控機(jī)+PLC控制 |
備注 | 可按客戶需求彈性設(shè)計(jì)/多腔設(shè)計(jì) |
暫無數(shù)據(jù),!