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碳化硅基氮化鎵外延片
碳化硅基氮化鎵外延片

參考價(jià)格

面議

型號

碳化硅基氮化鎵外延片

品牌

中電化合物

產(chǎn)地

浙江

樣本

暫無
中電化合物半導(dǎo)體有限公司

高級會員

|

第1年

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生產(chǎn)商

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    Substrate

    100 or150 mm

    500±25 μm

    Beveling or Flat Orientation

    Buffer

    Doping iron

    2±0.5 μm

    Can be customized

    GaN channel

    GaN

    200nm

    Can be customized

    AlN insert

    AlN

    0.5-1.5nm

    Can be customized

    Barrier

    AlGaN(25%Al)

    20nm

    Can be customized

    Cap

    GaN

    2nm

    SiN cap available upon request

     


      • Electrical Specifications


      Parameter

      Measurement

      Units

      Target

      Electron Mobility

      Hall

      cm2/V.s

      >1600

      Sheet charge Density

      Hall

      /cm2

      >8E12

      Sheet Resistivity

      Eddy current

      Ohms/sq

      <450

      Sheet Resistivity uniformity

      Eddy current

      55 point

      <3%

      surface Topography

      AFM

      nm@5*5μm2

      <0.5

      TTV


      um

      <5

      Bow


      um

      < 5 0

      Breakdown voltage

      Gate test

      V

      >120


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