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應(yīng)用領(lǐng)域：

適用于電子半導(dǎo)體、大規(guī)模集成電路,、MAMS,、單晶硅多晶硅及硅外延、LED,、TFT,、氮化鎵、碳化硅,、科研開(kāi)發(fā),、實(shí)驗(yàn)分析等。

特點(diǎn)：

●  適用于氮?dú)?、氫氣,、氧氣、氬氣,、氦氣和氨氣,，原料氣不低?9.999%

●  深度脫除雜質(zhì)O₂、H₂O,、CO,、CO₂、H₂,、N₂,、CH₄和NMHC至1ppb/10ppb

●  雙塔交替吸附再生，單塔催化,，終端Getter吸附,，全自動(dòng)連續(xù)運(yùn)行

●  EP級(jí)拋光不銹鋼管件

●  配置0.003μm過(guò)濾器，去除率可達(dá)99.999999% /99.99999%

●  西門(mén)子 PLC 可接入DCS系統(tǒng)

●  安全報(bào)警功能完善

●  可提供遠(yuǎn)程云服務(wù)

●  超凈環(huán)境中生產(chǎn)組裝

●  氣體處理量10-20000Nm³/h