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Ta 鉭靶材
Ta 鉭靶材

參考價格

面議

型號

RDB-BC-Ta

品牌

上海研倍

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無
上海研倍新材料科技有限公司

白金會員

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第1年

|

生產(chǎn)商

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1,、產(chǎn)品信息   

貨號

厚度

純度(%)

形貌

顏色

RDB-BC-Ta

可定制

99.9

靶材

金屬灰色或銀灰色

2、產(chǎn)品規(guī)格

定制

3,、產(chǎn)品概述

鉭(Ta)靶材通常用于物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等薄膜沉積工藝,,主要應用于制備具有高溫穩(wěn)定性和耐腐蝕性的薄膜。由于鉭具有良好的化學穩(wěn)定性和高熔點,,因此在這些領域中得到廣泛應用,。例如,鉭靶材可用于制備具有高溫穩(wěn)定性和耐腐蝕性能的薄膜,,如在半導體制造,、光學涂層、熱防護膜等領域,。此外,,鉭靶材還可用于制備具有特殊功能的薄膜,如防腐蝕膜,、導熱膜等,。

4、產(chǎn)品用途

高純度:鉭靶材通常具有高純度,,能夠滿足各種工藝對材料純度的要求,。

工藝適用性:鉭靶材可用于不同的薄膜沉積工藝,包括物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等,。

應用領域:鉭靶材在半導體制造,、光學涂層、裝飾膜等領域有廣泛的應用,。

性能優(yōu)異:鉭靶材具有良好的化學穩(wěn)定性和耐腐蝕性能,能夠滿足高端產(chǎn)品對材料性能的要求。


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