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連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用于在平板玻璃,、壓克力、PC,、PET等表面鍍制高質(zhì)量,、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜,、反應(yīng)膜,、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜,、抗反射（AR）,、增反射膜，LOW-E等膜層,。本公司可按用戶要求提供設(shè)計(jì),，提供全套鍍膜設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝,，按交“鑰匙”工程服務(wù),。

設(shè)備特點(diǎn)：

1.設(shè)備采用真空磁控濺射技術(shù)，孿生陰極,，中頻濺射技術(shù),，并配以先進(jìn)的控制系統(tǒng) 。

2.生產(chǎn)過(guò)程全部自動(dòng),，連續(xù)進(jìn)行,。被鍍工件加熱溫度**可達(dá)350℃，溫度分區(qū)控制可調(diào),。

3.真空室材料采用SUS304,，真空室內(nèi)壁進(jìn)行拋光處理,，外壁采用拋光后噴漆處理。

4.真空室之間采用獨(dú)立門(mén)閥隔開(kāi),，我們?cè)O(shè)計(jì)的是插板閥,，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體,。傳動(dòng)采用磁導(dǎo)向,，保障傳動(dòng)的穩(wěn)定性。整條生產(chǎn)線的各段速度采用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng),，運(yùn)行速度可調(diào)節(jié),。

5.電氣控制系統(tǒng)：觸摸屏與PLC自動(dòng)控制，人機(jī)對(duì)話方式來(lái)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)顯示,、操作與控制,。

1．極限真空：7x10-4Pa.                    

2．生產(chǎn)周期40~120秒/架

3．基本架尺寸：859*1500mm (可以根據(jù)要求定做) 

4．膜層均勻性：±2%

5．膜層穩(wěn)定性：達(dá)到國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)

玻璃、導(dǎo)電膜

廣泛地用于液晶顯示器(LCD),、太陽(yáng)能電池,、微電子ITO導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域

適用于柔性電致變色器件,、柔性薄膜太陽(yáng)能電池,、柔性EL發(fā)光器件的制備和生產(chǎn)