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外延片PL譜掃描成像儀用于快速在線檢測(cè)發(fā)光二極管外延片的質(zhì)量,,主要用于發(fā)光二極管外延片和芯片生產(chǎn)線.生成高分辨率的圖譜和測(cè)定薄膜厚度等,。本儀器為外延片生產(chǎn)工藝優(yōu)化控制提供快速可靠的數(shù)據(jù)反饋.為高效高質(zhì)量生產(chǎn)提供可靠保證。本成像儀現(xiàn)已成功應(yīng)用于多條LED外延片生產(chǎn)線上,。逐點(diǎn)掃描檢測(cè)計(jì)算機(jī)分析計(jì)算外延片的積分光強(qiáng),,主波長(zhǎng),峰值波長(zhǎng),,光譜半寬等參數(shù)以繪圖形式顯示分布和數(shù)據(jù)截面分布囤,,顯示單點(diǎn)光譜顯示各個(gè)參數(shù)的統(tǒng)計(jì)結(jié)果顯示選擇范圍的各項(xiàng)統(tǒng)計(jì)參數(shù)可進(jìn)行局部掃描,,并對(duì)掃描結(jié)果進(jìn)行去孤立點(diǎn)和去邊處理采用白光反射譜測(cè)量薄膜厚度并以繪圖形式顯示分布和數(shù)據(jù)配備離線數(shù)據(jù)處理軟件本成像儀可靠。結(jié)構(gòu)緊湊,。全部檢測(cè)和數(shù)據(jù)處理由計(jì)算機(jī)自動(dòng)完成,。采用用戶友好的窗口界面,操作簡(jiǎn)便,。用戶僅需*小的培訓(xùn)就可使用,。另外可根據(jù)不同外延片,選配不同的激光器,。
技術(shù)參數(shù):
1 ,、光致發(fā)光樣品腔
10x M-Plan鏡頭顏色修正,波長(zhǎng)范圍:350-1800nm
工作距離:30.5mm,, 20mm FL,, z軸可調(diào)
系統(tǒng)空間分辨率:10微米(1微米選配)
鏡子帶孔洞作為激光束及PL信號(hào)的通道
Iris光圈用于激光束的調(diào)整
可變ND過濾器用于激光能量的控制(99% to 2%)
10毫米孔洞PL信號(hào)校準(zhǔn)鏡頭
馬達(dá)控制的XY臺(tái),**速度30毫米/秒,,1微米掃描分辨率
2 & 4外延晶片樣品盤
包括高分辨控制器和電纜
2,、IG512近紅外光譜儀,900-1700nm,, 512像素,, InGaAs陣列
25um x 500um像素尺寸,14bits,, 2.5MHz數(shù)字轉(zhuǎn)換器,, f/4, 40mm FL
探測(cè)范圍:900nm全譜,,300gr/mm,, 1um blaze grating
包括SMA905, 400um多模光纖,,1米長(zhǎng)
3,、EPP2000-VIS(350-1150nm)用于紫外-可見光,衍射光柵光譜儀
f/4,, symX-Czerny-turner類型
分辨率:1.6nm (50um狹縫,,@600gr/mm grating)
包括2048像素CCD探測(cè)器,12bit數(shù)字轉(zhuǎn)換器
600gr/mm grating
接口:USB-2&平行
SMA905光纖光學(xué)輸入,,0.22NA,,400um多模光纖,1米長(zhǎng)
主要特點(diǎn):
儀器特點(diǎn)
高品質(zhì)及中等價(jià)位的PL掃描系統(tǒng)(高性價(jià)比),;
波長(zhǎng)范圍寬廣(UV-VIS-NIR,, 350nm to 2.2um);
噪聲低,,高PL信號(hào)探測(cè),;
設(shè)計(jì)緊湊,,易于調(diào)諧;
各種激發(fā)激光源可選,;
易于發(fā)現(xiàn)峰及FWHM,;
暫無數(shù)據(jù)!