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工作原理
激光剝蝕技術(shù)LA及激光誘導(dǎo)擊穿光譜LIBS相結(jié)合,,J200接收等離子體發(fā)射光進(jìn)行快速光譜分析,同時將激光剝蝕顆粒高效傳輸至ICP-MS系統(tǒng),。
主要特點(diǎn):
J200具有LA和LIBS雙系統(tǒng)測量能力,,可以單獨(dú)運(yùn)行LA 或LIBS,或者同時運(yùn)行LA- LIBS復(fù)合系統(tǒng),。激光fs 或ns可選,。
樣品自動對焦、高度自動調(diào)整,、光斑大小調(diào)節(jié),。
可對固、液,、氣樣品進(jìn)行全元素LIBS快速檢測,,同時可將固體樣品的剝蝕顆粒或者液體樣品直接送入ICP-MS系統(tǒng),,實(shí)現(xiàn)ppb級精確分析,。
可用于分析元素周期表中的所有元素。
ASI數(shù)據(jù)分析軟件可在一個數(shù)據(jù)分析平臺進(jìn)行,,分析LIBS和LA數(shù)據(jù),;可進(jìn)行快速映射功能。
應(yīng)用領(lǐng)域
復(fù)雜樣本的定性和定量分析
制造質(zhì)量控制:制藥,、生物技術(shù),、電子、太陽能,、薄膜等
污染控制
土壤,、植物和礦物分析
玻璃、油漆和其他痕跡證據(jù)的法醫(yī)分析
材料來源確定
學(xué)術(shù)界,、政府和商業(yè)企業(yè)研究和實(shí)驗(yàn)室分析
性能指標(biāo)
激光系統(tǒng) | |||
**能量 | 25mJ@ 266nm,;能量輸出 0-100%可調(diào) | 重現(xiàn)率 | 20Hz,脈寬<6ns(FWHM),,DI 水冷卻系統(tǒng) |
能量控制 | 光學(xué)衰減連續(xù)可變 | 光斑大小控制 | 35-250 微米可調(diào)(到達(dá)樣品表面的燒蝕光斑直徑) |
激光光閘 | 自動雙光閘,,穩(wěn)定控制激光能量和 LIBS 信號測量 | 激光安全 | I 級,樣品放置區(qū)域有濾光器,有激光鎖定保護(hù) |
檢測器系統(tǒng) | |
譜寬190-1040 nm | 測量過程不不受環(huán)境溫度變化的影響 |
分辨率λ/Δλ高達(dá) 6000 | 光譜精度優(yōu)于±0.05nm |
雜散光抑制 | 探測器門控 |
門延時為0.5ns-1ms | 分辨率 0.5 ns |
樣品平臺系統(tǒng) | |
全自動 XYZ 行程 | XY 行程 100mmx100mm,,Z 行程 35mm |
XY 行程分辨率 0.2um,,Z 行程分辨率 0.2um | XY 行程重現(xiàn)率 0.2um,Z 行程重現(xiàn)率 0.2um |
速度 0.001-20 mm/s | 氣壓可控 |
樣品放置區(qū)域有濾光器,,有激光鎖定保護(hù)功能 | 含高效空氣顆粒清潔器 |
具備專配 670 納米激光協(xié)助樣品高度自動調(diào)整功能 | |
雙 CMOS 相機(jī),,廣角用于定位采樣區(qū)域,高倍成像用于觀察某一特定區(qū)域,。并可在電腦屏幕上實(shí)時觀察樣品燒蝕過程 | |
樣品池-可充氦氣或氬氣惰性氣體保護(hù);鋰電池樣品需要保持在無水,,無氧的條件下進(jìn)行測量。測量碳,,氮,,氧,氫,,氟等元素時;樣品池需要保持在氦氣氣氛中,。 |
操作軟件 | |
激光自動采樣設(shè)置 | 單點(diǎn)、網(wǎng)格,、光柵狀,、線性掃描或用戶自定義設(shè)置 |
數(shù)據(jù)處理系統(tǒng) | 包含譜線自動識別功能、光譜處理功能,、LIBS 的強(qiáng)度監(jiān)測,、化學(xué)統(tǒng)計(jì)功能等 |
元素制圖及深度分析控制 | 包含84種元素的Trulibs™光譜數(shù)據(jù)庫和LIBS NIST 理論數(shù)據(jù)庫(涵蓋所有元素) |
設(shè)置預(yù)脈沖個數(shù)用來清洗樣品表面污染物 | 高度自動化的測量功能 |
元素特征線的自動標(biāo)定、標(biāo)準(zhǔn)曲線建立(單變量和多變量校準(zhǔn)曲線),、主成分回歸功能可用于樣品分類 |
暫無數(shù)據(jù),!