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K-T G200/inSEM/iMicro/Nano納米壓痕劃
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此微納米力學(xué)原位測(cè)試系統(tǒng)可以對(duì),,各種微納米薄膜,、涂層材料或塊體材料微納米尺度上進(jìn)行壓痕、劃痕,、摩擦磨損和原位掃描探針成像測(cè)試功能,,通過(guò)軟件直接實(shí)現(xiàn)連續(xù)更換不同實(shí)驗(yàn)?zāi)J剑哂懈叻直媛剩呖刂凭?,高穩(wěn)定性的特點(diǎn),。設(shè)備可直接測(cè)試出器件及各種微納米薄膜、涂層材料或塊體材料微納米尺度上在不同溫度下的硬度,、表面粗糙度,、薄膜厚度、楊氏模量,、基底效應(yīng),、斷裂韌性、附著性能,、抗磨損能力,、儲(chǔ)能模量、損耗模量及損耗因子等,。設(shè)備可直接觀測(cè)器件及各種納米薄膜涂層材料在微/納米尺度上的失效,、斷裂、蠕變,、摩擦磨損等各種力學(xué)行為的發(fā)生,,結(jié)合上述工作對(duì)材料的制備工藝和服役性能進(jìn)行評(píng)價(jià)。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了聚合物,、復(fù)合材料,、金屬、陶瓷,、MEMS,、生物材料等幾乎所有的材料領(lǐng)域

美國(guó)KLA-Tencor公司是全球微納米力學(xué)(壓痕)測(cè)試設(shè)備的開(kāi)創(chuàng)者,,全球**臺(tái)納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)于上世紀(jì)80年代初在此誕生,,多種測(cè)量方法和物理模型都是來(lái)自該公司。經(jīng)過(guò)30多年不斷地努力和改進(jìn),,目前該公司微納米力學(xué)測(cè)試不僅實(shí)現(xiàn)了靜態(tài)納米壓痕測(cè)試,,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了高水平的動(dòng)態(tài)納米壓痕測(cè)試和原位納米壓痕測(cè)試,當(dāng)前中華人民共和國(guó)納米壓痕測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)GB/T 224582008GB/T 25898-2010均包括了KLA-Tencor 的連續(xù)剛度測(cè)量**技術(shù),,在該領(lǐng)域具有很高的權(quán)威性,,KLA-Tencor在連續(xù)剛度測(cè)試(CSM)、高分辨率,、掃描成像,、快速測(cè)試方面擁有獨(dú)有技術(shù)。KLA-Tencor是該領(lǐng)域知名的跨國(guó)公司,,中國(guó)設(shè)立地區(qū)總部,, 擁有高水平的專(zhuān)業(yè)技術(shù)支持和售后服務(wù)人員,,國(guó)內(nèi)用戶(hù)得到很好的售后服務(wù)和技術(shù)支持,國(guó)內(nèi)主要高校和中科院下屬多個(gè)研究機(jī)構(gòu)以及測(cè)試中心均采購(gòu)該微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng),。

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