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C10178-01 納米膜厚測量儀系列
特性
高速,、高準(zhǔn)確度
實(shí)時(shí)測量
映射功能
不整平薄膜精確測量
分析光學(xué)常數(shù)（n，k）
可外部控制
與特定附件配合,，可測量量子收益,、反射率、透射率以及吸收系數(shù)等,。
參數(shù)
| 型號 | C10178-01 |
| 測量模型 | 標(biāo)準(zhǔn)型（通用測量） |
| 可測膜厚范圍（玻璃） | 20 nm to 50 μm*1 |
| 測量可重復(fù)性（玻璃） | 0.01 nm*2 *3 |
| 測量準(zhǔn)確度（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | 鹵素?zé)?/td> |
| 測量波長 | 400 nm to 1100 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距離 | 10 mm*3 |
| 可測層數(shù) | *多10層 |
| 分析 | FFT 分析,，擬合分析,，光學(xué)常數(shù)分析 |
| 測量時(shí)間 | 19 ms/點(diǎn)*5 |
| 光纖接口形狀 | φ12套筒型 |
| 外部控制功能 | RS-232C， 通過PIPE或Ethernet進(jìn)行內(nèi)部軟件數(shù)據(jù)傳輸 |
| 接口 | USB2.0 |
| 電源 | AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V,， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 250W |
*1：以 SiO2折射率1.5來轉(zhuǎn)換
*2：測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標(biāo)準(zhǔn)偏差
*3：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率
*4：可保證的測量范圍列在VLSI標(biāo)準(zhǔn)測量保證書中
*5：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間
暫無數(shù)據(jù),！
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