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【上海沃瓏儀器】HT3 整合了靜態(tài)、動態(tài)兩種進樣技術,，進樣管路可加熱至300℃,，適用于各種揮發(fā)性和半揮發(fā)性的樣品進行處理,，可以用于擴展氣相色譜(GC) 和氣相色譜/質譜聯(lián)機(GC/MS) 的分析樣品類型及擴大檢測范圍。
主要特點和性能
- 合動態(tài)頂空部件靈敏度提高50-100倍
- 流量和壓力通過質量流量控制器進行控制,，提高精度和準確性
- 樣品流路溫度可加熱至300°C
- 同一進樣序列內可選用不同方法
- 靜態(tài)頂空和動態(tài)頂空可任意切換
- Siltek涂層進樣環(huán),，多種規(guī)格可選
- 可與市場上所有GC連接，通過軟件設置數據傳輸
主要技術參數
進樣盤瓶位 | 60位 |
加熱盤 | 可將10個樣品瓶加熱至300℃,，升溫梯度1℃ |
進樣定量杯 | Siltek®圖層進樣杯,，100μL/250μL/300μL/500μL/2mL/3mL/5mL等規(guī)格可選 |
捕集管加熱 | 升溫控制可高達300℃（針對捕集管） |
控制閥 | 24V直流電動8通閥，溫度從室溫至300℃可控 |
抗腐蝕性 | 前蓋可承受pH 1-10的溶液腐蝕 |
供電 | 220V,，50Hz,，5A |
供氣 | 99.999%高純氦氣或氮氣，壓力65-100 psi |
環(huán)境條件 | 可在實驗室溫度條件下操作,，溫度10℃-30℃,，濕度10-90% |
尺寸與重量 | 1207.5px×1587.5px×1372.5px(W×D×H)，39kg |
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