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Vasco Kin原位時(shí)間分辨納米粒度分析是新一代動(dòng)態(tài)光散射納米粒度分析儀,,通過(guò)遠(yuǎn)程光學(xué)探頭,進(jìn)行原位非接觸測(cè)量和反應(yīng)動(dòng)力學(xué),,用于監(jiān)測(cè)納米顆粒的合成,、團(tuán)聚或懸浮液穩(wěn)定性的研究或監(jiān)測(cè)。常用于實(shí)時(shí)納米顆粒合成過(guò)程監(jiān)控,, 核反應(yīng)堆內(nèi)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量,,與其它粒度特性測(cè)量?jī)x器聯(lián)用(如光譜儀、SAXS等),。
粒度測(cè)量范圍 : 0.5nm 到 10μm
背向動(dòng)態(tài)光散射原理,,實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程非接觸測(cè)量
監(jiān)測(cè)納米顆粒合成過(guò)程;監(jiān)測(cè)整個(gè)過(guò)程的粒度變化情況,,有助于穩(wěn)定性研究
全自動(dòng)非接觸測(cè)量:能穿透玻璃和塑料針管,,測(cè)定包裝物及反應(yīng)釜中的粒度分布和隨時(shí)間的變化
適用樣品濃度:0.1ppm-40%(w/v)
時(shí)間分辨: DLS的分辨率為0.2s,用于動(dòng)力學(xué)監(jiān)測(cè)
隨時(shí)間變化的粒度分布彩色地形圖
“時(shí)間切片”功能:用戶對(duì)測(cè)試后數(shù)據(jù)可進(jìn)行任意時(shí)間段內(nèi)的粒度分析
樣品前處理:無(wú)需樣品前處理,,直接測(cè)試
硬件規(guī)格(核心單元):
1. 激光源: 高穩(wěn)定性激光二極管(可選藍(lán)光和綠光)
2. 探測(cè)器: 無(wú)偽影雪崩光電二極管(APD)
3. 計(jì)算設(shè)備: 內(nèi)嵌專用電腦
4. 數(shù)據(jù)處理: NanoKin® 相關(guān)和分析軟件
5. 典型測(cè)量時(shí)間:*快200ms,。測(cè)量時(shí)間由樣品和測(cè)量設(shè)置決定
6. 操作條件/存儲(chǔ)條件:15℃ ~ 40℃ / -10℃ ~ 50℃ – 非冷凝相對(duì)濕度 < 70%
7. 尺寸/重量: 220 x 220 x 64 mm (上半部分) / 2.5 kg
220 x 220 x 48 mm (下半部分) / 2.8 kg
Nano Kin™軟件的主要特點(diǎn):
- 三個(gè)層級(jí)登錄配置文件:管理員、專家,、操作員
- 運(yùn)行模式:包括測(cè)量,、模擬、后分析(導(dǎo)入)
- 直觀導(dǎo)航(順序)
- 時(shí)間切片和動(dòng)力學(xué)模式:獨(dú)特的技術(shù),,允許監(jiān)測(cè)快速動(dòng)力學(xué)和/或準(zhǔn)確的再現(xiàn)性測(cè)量(時(shí)間分辨率高達(dá)200毫秒),。
- 可讀數(shù)據(jù)和繪圖:
- 動(dòng)態(tài)導(dǎo)出數(shù)據(jù)/繪圖(右鍵單擊到剪貼板)
- 報(bào)告文件格式:.pdf或.rtf(兼容writer軟件)
- 反轉(zhuǎn)算法:
- CUMULANTS 累積量算法:用于具有單分散趨勢(shì)的單峰樣品
- PADE-LAPLACE算法(專有):多峰樣品的離散數(shù)學(xué)方法。
- 稀疏貝葉斯學(xué)習(xí)算法(SBL,;專有):多峰樣品的連續(xù)分布數(shù)學(xué)方法,。對(duì)于所期望的分布斜率不需要先驗(yàn)知識(shí),正則化參數(shù)自學(xué)習(xí)概率計(jì)算模塊,。
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