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技術(shù)參數(shù)：
技術(shù)指標(biāo)：
坩堝大小:1cc,；2cc，（其它體積定制）
可實現(xiàn)的金屬層厚度: > 500 nm per load at distance 250 mm
通常（**）沉積速度:1 nm/sec (10 nm/sec) at distance 250 mm
加熱系統(tǒng):帶坩堝的陶瓷容器
選項：標(biāo)準(zhǔn)金屬容器（可替換）
溫度范圍:300°C ~ 1700°C
電源要求:電壓 < 10 V (typ. 9 V),；電流 < 200 A (typ. 110 A)；功率 up to 2 kW
冷卻水:approx. 15 l /min
選項：
• 陶瓷容器,；金屬容器
• 可彎曲的金屬管用于冷卻系統(tǒng),，免工具操作
• 與有機物升華器的聯(lián)合裝配
主要特點：
微型金屬升華器專為實驗室研究或微小規(guī)模的制備而設(shè)計，可以裝配高真空或超高真空系統(tǒng),，主要用于沉積制備金屬層。
特殊設(shè)計的升華器核心構(gòu)成為傳導(dǎo)效率很高的陶瓷容器,，同時包括一個嵌入的坩堝,。兩種材料均能夠承受金屬的溶解過程。坩堝的材料可以所所升華金屬的不同而選擇,。
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